[发明专利]纳米二氧化硅抛光剂及其制备方法

摘要

本发明公开了一种纳米二氧化硅（SiO＃-[2])抛光剂及其制备方法，所说的抛光剂由SiO＃-[2]粉体、水、分散稳定剂、润湿调节剂、pH调节剂和表面处理剂组成，SiO＃-[2]的含量最高可达６０％（wt.），产品的粘度<0.1Pa.s，重力沉降性能为一年以上，是一种性能优良的ＣＭＰ技术用的抛光材料，能用于硅片的粗抛和精抛以及ＩＣ加工过程，特别适用于大规模集成电路多层化薄膜的平坦化加工，也可用于晶圆的后道ＣＭＰ清洗等半导体器件的加工过程、平面显示器、多晶化模组、微电机系统、光导摄像管等的加工过程，其抛光质量和抛光速度均优于国内外同类产品。$＃!

主权项

1．一种纳米二氧化硅抛光剂，其特征在于：(1)抛光剂由纳米SiO2粉体、水、分散稳定剂、润湿调节剂、pH调节剂和表面处理剂所组成；(2)．抛光剂中分散稳定剂和表面处理剂与SiO2的配比为：分散稳定剂：(SiO2)=0.01～8.0％(wt.)表面处理剂：(SiO2)=0.01～8.0％(wt.)；润湿调节剂加入的量能使最初的纯水的PH值达到2～4；pH调节剂加入的量能使最终产品的PH值达到8.5～13；所说的分散稳定剂为一种高分子表面活性剂；所说的表面处理剂为一种小分子表面活性剂；所说的润湿调节剂为一种酸性物质，所说的pH调节剂为一种碱性物质；所说的分散稳定剂为聚乙烯醇、酚改性的聚氧乙烯、聚乙烯吡咯烷酮、聚丙烯盐酸、聚乙烯醇与聚苯乙烯嵌段共聚物、聚丙二醇或聚醚改性的聚二甲基硅氧烷共聚物中的一种或一种以上；所说的表面处理剂为乙醇胺、三乙醇胺、1，2-丙二醇、丙三醇、1，3-丁二醇、1，4-丁二醇、十二羟基硬脂酸、油酸、二异丙醇胺中的一种或一种以上；所说的润湿调节剂为酒石酸、硝酸钾、水杨酸、硫酸钾、醋酸、盐酸、硫酸、氯化钾或硝酸中的一种或一种以上；所说的pH调节剂为氨水、乙醇胺、三乙醇胺、异丙醇胺、氨基丙醇、氢氧化钾或二异丙醇胺中的一种或一种以上。