[发明专利]纳米二氧化硅抛光剂及其制备方法

权利要求书

1．一种纳米二氧化硅抛光剂，其特征在于：

(1)抛光剂由纳米SiO₂粉体、水、分散稳定剂、润湿调节剂、pH调节剂和表面处理剂所组成；

(2)．抛光剂中分散稳定剂和表面处理剂与SiO₂的配比为：

      分散稳定剂：(SiO₂)=0.01～8.0％(wt.)

      表面处理剂：(SiO₂)=0.01～8.0％(wt.)；

润湿调节剂加入的量能使最初的纯水的PH值达到2～4；

pH调节剂加入的量能使最终产品的PH值达到8.5～13；

所说的分散稳定剂为一种高分子表面活性剂；所说的表面处理剂为一种小分子表面活性剂；所说的润湿调节剂为一种酸性物质，所说的pH调节剂为一种碱性物质；

所说的分散稳定剂为聚乙烯醇、酚改性的聚氧乙烯、聚乙烯吡咯烷酮、聚丙烯盐酸、聚乙烯醇与聚苯乙烯嵌段共聚物、聚丙二醇或聚醚改性的聚二甲基硅氧烷共聚物中的一种或一种以上；

所说的表面处理剂为乙醇胺、三乙醇胺、1，2-丙二醇、丙三醇、1，3-丁二醇、1，4-丁二醇、十二羟基硬脂酸、油酸、二异丙醇胺中的一种或一种以上；

所说的润湿调节剂为酒石酸、硝酸钾、水杨酸、硫酸钾、醋酸、盐酸、硫酸、氯化钾或硝酸中的一种或一种以上；

所说的pH调节剂为氨水、乙醇胺、三乙醇胺、异丙醇胺、氨基丙醇、氢氧化钾或二异丙醇胺中的一种或一种以上。

2．如权利要求1所述的抛光剂，其特征在于：抛光剂的粘度＜0.1Pa.s。

3．一种纳米二氧化硅抛光剂的制备方法，其特征在于主要包括如下步骤：

(1)．在高纯去离子水中加入润湿调节剂，调节水的pH至2～4之间；

(2)．在分散搅拌机中加入纳米SiO₂粉体、表面处理剂、分散稳定剂和含有润湿调节剂的高纯去离子水，使之充分混合分散；分散稳定剂和表面处理剂的加入量为：

      分散稳定剂：(SiO₂)=0.01～8.0％(wt.)

      表面处理剂：(SiO₂)=0.01～8.0％(wt.)

(3)．加入pH调节剂，调节分散体系的pH为8.5～13.0，即获得纳米SiO₂抛光剂；

所说的分散稳定剂为聚乙烯醇、酚改性的聚氧乙烯、聚乙烯吡咯烷酮、聚丙烯盐酸、聚乙烯醇与聚苯乙烯嵌段共聚物、聚丙二醇或聚醚改性的聚二甲基硅氧烷共聚物中的一种或一种以上；

所说的表面处理剂为乙醇胺、三乙醇胺、1，2-丙二醇、丙三醇、1，3-丁二醇、1，4-丁二醇、十二羟基硬脂酸、油酸、二异丙醇胺中的一种或一种以上；

所说的润湿调节剂为酒石酸、硝酸钾、水杨酸、硫酸钾、醋酸、盐酸、硫酸、氯化钾或硝酸中的一种或一种以上；

所说的pH调节剂为氨水、乙醇胺、三乙醇胺、异丙醇胺、氨基丙醇、氢氧化钾或二异丙醇胺中的一种或一种以上。