[发明专利]含糖酰脲的化妆制剂无效
| 申请号： | 98109729.4 | 申请日： | 1998-05-05 |
| 公开（公告）号： | CN1198326A | 公开（公告）日： | 1998-11-11 |
| 发明（设计）人： | H·U·维克;L·范德姆布斯歇许纳费尔德;H·斯特赖歇尔;H·维斯藤费德 | 申请（专利权）人： | BASF公司 |
| 主分类号： | A61K7/48 | 分类号： | A61K7/48 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 吴大建 |
| 地址： | 联邦德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明描述了通式Ⅰ的糖酰脲在化妆品中作为一种活性组分的用途,及含糖酰脲的化妆制品及其制备方法,其中符号的含义如下R1为糖酸残基,R2是氢原子,C1－C20酰基,C1－C20烷基,C2－C10链烯基,C3－C10环烯基,C3－C10环烷基或芳基,最后提及的三种基团可以被取代,R3,R4相互独立地是氢原子,C1－C20酰基,C1－C20烷基,C2－C10链烯基,C3－C10环烯基,C3－C10环烷基或芳基,最后提及的三种基团可以被取代,或者是糖酸残基。 | ||
| 搜索关键词： | 含糖 化妆 制剂 | ||
【主权项】：
1.通式I的糖酰脲在化妆制品中的用途，其中符号的含义如下：R1为糖酸残基，R2是氢原子，C1-C20酰基，C1-C20烷基，C2-C10链烯基，C3-C10环烯基，C3-C10环烷基或芳基，最后提及的三种基团可以被取代，R3，R4相互独立地是氢原子，C1-C20酰基，C1-C20烷基，C2-C10链烯基，C3-C10环烯基，C3-C10环烷基或芳基，最后提及的三种基团可以被取代，或者是糖酸残基。
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