[发明专利]含糖酰脲的化妆制剂

权利要求书

1.通式I的糖酰脲在化妆制品中的用途，其中符号的含义如下：R₁为糖酸残基，R₂是氢原子，C₁-C₂₀酰基，C₁-C₂₀烷基，C₂-C₁₀链烯基，C₃-C₁₀环烯基，C₃-C₁₀环烷基或芳基，最后提及的三种基团可以被取代，R₃，R₄相互独立地是氢原子，C₁-C₂₀酰基，C₁-C₂₀烷基，C₂-C₁₀链烯基，C₃-C₁₀环烯基，C₃-C₁₀环烷基或芳基，最后提及的三种基团可以被取代，或者是糖酸残基。

2.权利要求1所述的糖酰脲的用途，其中糖酸的羟基官能团以被保护或未被保护的形式存在。

3.权利要求1和2所述的糖酰脲用作保湿剂的用途。

4.一种化妆制品，其中含有有效量的至少一种式I化合物和常用化妆品辅剂和添加剂。

5.式Ia的糖酰脲其中R₁是得自核糖酸、阿糖酸、葡糖酸、半乳糖酸、葡糖醛酸、半乳糖醛酸、古洛糖酸及酮古洛糖酸的糖酸残基，R₂是氢原子，C₁-C₂₀酰基，C₁-C₂₀烷基，C₂-C₁₀链烯基，C₃-C₁₀环烯基，C₃-C₁₀环烷基或芳基，最后提及的三种基团可以被取代，R₃，R₄相互独立地是氢原子，C₁-C₂₀酰基，C₁-C₂₀烷基，C₂-C₁₀链烯基，C₃-C₁₀环烯基，C₃-C₁₀环烷基或芳基，最后提及的三种基团可以被取代，或者是得自核糖酸、阿糖酸、葡糖酸、半乳糖酸、葡糖醛酸、半乳糖醛酸、古洛糖酸及酮古洛糖酸的糖酸残基。

6.权利要求5所述的糖酰脲，潜在糖酸的羟基官能团以被保护或未保护的形式存在。

7.制备权利要求1所述的式I糖酰脲的方法，其中包括活化的糖酸与脲或式II的脲衍生物反应，其中R₂是氢原子，C₁-C₂₀酰基，C₁-C₂₀烷基，C₂-C₁₀链烯基，C₃-C₁₀环烯基，C₃-C₁₀环烷基或芳基，最后提及的三种基团可以被取代，而R₃，R₄相互独立地是氢原子，C₁-C₂₀酰基，C₁-C₂₀烷基，C₂-C₁₀链烯基，C₃-C₁₀环烯基，C₃-C₁₀环烷基或芳基，最后提及的三种基团可以被取代，或者是得自核糖酸、阿糖酸、葡糖酸、半乳糖酸、葡糖醛酸、半乳糖醛酸、古洛糖酸及酮古洛糖酸的糖酸残基。