[发明专利]卷尺覆层用的不反光聚酯薄膜或聚酰胺薄膜加工方法无效
| 申请号： | 98100563.2 | 申请日： | 1998-02-23 |
| 公开（公告）号： | CN1190055A | 公开（公告）日： | 1998-08-12 |
| 发明（设计）人： | 李诗通 | 申请（专利权）人： | 李诗通 |
| 主分类号： | B29C59/02 | 分类号： | B29C59/02;B24C1/08 |
| 代理公司： | 北京奥瑞专利事务所 | 代理人： | 朱黎光 |
| 地址： | 台湾省台北市*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种卷尺覆层用的具有不反光面的聚酯薄膜或聚酰胺薄膜加工方法,其是将双面皆为亮光面的聚酯薄膜或聚酰胺薄膜自膜卷中拉展出,进入研磨装置中经粗粒度砂研磨去除薄膜其中一光亮表层、再经中粒度砂研磨整平该粗研磨面,最后经细粒度砂研磨修饰;研磨后的薄膜再进入由一系列的刷除器和吸尘器构成的粉尘清除装置清除研磨后的粉尘;即成为具有一面不反光面的聚酯薄膜或聚酰胺薄膜;其贴覆于卷尺的尺面上,除能保护尺面不易被磨损外,还兼有使尺面不反光易于判读的特征。 | ||
| 搜索关键词： | 卷尺 覆层 反光 聚酯 薄膜 聚酰胺 加工 方法 | ||
【主权项】：
1、一种卷尺覆层用的不反光聚酯薄膜或聚酰胺薄膜加工方法，其特征在于该方法的步骤为：将双面皆为亮光面的聚酯薄膜或聚酰胺薄膜自聚酯薄膜卷或聚酰胺薄膜卷中拉展出，然后进入一个研磨装置中经粗粒度砂研磨去除聚酯薄膜或聚酰胺薄膜的其中一光亮表面、再经中粒度砂研磨整平粗研磨面，最后经细粒度砂研磨修饰；研磨后的聚酯薄膜或聚酰胺薄膜进入一个粉尘清除装置中将研磨粉尘清除再予以收制成卷，即成为具有一面不反光面的聚酯薄膜或聚酰胺薄膜。
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