[发明专利]二聚体含量低的空间位阻4-氨基哌啶及其制备方法和应用无效

专利信息
申请号: 97195198.5 申请日: 1997-05-28
公开(公告)号: CN1088697C 公开(公告)日: 2002-08-07
发明(设计)人: M·朱利尤斯;H·儒斯特;A·克拉斯;H·希盖尔;W·希盖尔;T·维泽尔 申请(专利权)人: 巴斯福股份公司
主分类号: C07D211/58 分类号: C07D211/58;C07D211/72;C07B63/04
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 李勇
地址: 联邦德国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种抑制式I的哌啶二聚的方法,式中,R1-R4为C1-C6烷基,R1和R2和/或R3和R4一起构成有2-5个碳原子的CH2链,该方法包括将0.001-0.2%(重量)的式MXH4-mYm抑制剂加到哌啶中,其中M为碱金属、NR4(其中R为相同的或不同的C1-C4烷基)或等当量的碱土金属或等当量的锌,X为硼或铝,Y为H或CN,m为0或1。本发明还涉及一种式I的哌啶、0.001-0.2%(重量)抑制剂和1-1000ppm式I哌啶的二聚体的混合物,以及涉及由它们制备位阻胺光稳定剂。
搜索关键词: 二聚体 含量 间位 氨基 哌啶 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
1.一种抑制式I的哌啶二聚的方法式中,R1-R4为C1-C6烷基,或R1和R2和/或R3和R4一起构成有2-5个碳原子的CH2链,该方法包括将基于哌啶计0.001-0.2%(重量)式MXH4-mYm的抑制剂加到哌啶中,其中M为碱金属、NR4或等当量的碱土金属或等当量的锌,其中R为相同的或不同的C1-C4烷基,X为硼或铝,Y为CN,并且m为0或1。
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