[发明专利]多变量样品分析在审
| 申请号: | 97193307.3 | 申请日: | 1997-01-24 |
| 公开(公告)号: | CN1214767A | 公开(公告)日: | 1999-04-21 |
| 发明(设计)人: | D·C·阿尔斯梅耶;V·A·尼瑟莱 | 申请(专利权)人: | 伊斯曼化学公司 |
| 主分类号: | G01N21/27 | 分类号: | G01N21/27 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 王景朝,罗才希 |
| 地址: | 美国田*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | 在用分析装置分析一种未知组成的样品的过程中,对一组分析测量和一组参考测量进行调整,以消除与装置相关的操作误差,从而提供经调整的信号响应的第一和第二矩阵,所述测量各自包括一组通过第一和第二分析装置由一组样品获得的一组多变量信号响应。将所述两个经调节的信号响应的矩阵之一分解成一种矩阵的矩阵积,该矩阵积包括一个含有一组主要因素的矩阵,和含有与所述的主要因素组的每一个主要因素相关的量的矩阵。构建一个压缩信号响应矩阵积,该矩阵积包括一个含有所述主要因素组的子集的矩阵,和一个含有与该子集中每一种主要因素相关的量的矩阵。可由后一种矩阵计算出投影矩阵。使用该投影矩阵和包含一种归一化矩阵的第一归一化矩阵积和所述两个的经调节的信号响应的矩阵中的另一个构建压缩归一化矩阵积。计算出能降低所述第一归一化矩阵积和所述压缩归一化矩阵积之间的差异的归一化矩阵的值由此获得最佳的归一化矩阵。构建包括所述最佳归一化矩阵和所述经调节的信号响应矩阵中己被分解成矩阵积的另一个矩阵的第二归一化矩阵积。使用经调节的信号响应的另一个矩阵和第二归一化矩阵积构成一种校准,该校准可用于分析通过第一分析装置由所述未知组成的样品获得的信号响应,并应用于获自该样品的所述信号响应,以测定其组成。 | ||
| 搜索关键词: | 多变 样品 分析 | ||
【主权项】:
1.一种利用由一组样品获得的一组分析数据和一组参考数据通过分析装置分析一种未知组成的样品的方法,该方法包括:用第一分析装置对所述样品组进行测定,从而获得一组包括第一组多变量信号响应的分析数据;调整所述第一组多变量信号响应,以消除与所述第一分析装置相关的操作误差的影响,从而获得经调节的信号响应的第一矩阵;用第二分析装置对所述样品组进行测定,从而获得一组由第二组多变量信号响应组成的参考测定值;调整所述第二组多变量信号响应,以消除与所述第二分析装置相关的操作误差的影响,从而获得经调节的信号响应的第二矩阵;将所述经调节的信号响应矩阵之一分解成一种矩阵积,该矩阵积包括一个含有一组主要因素的矩阵,和含有与所述主要因素组的每一个因素相关的量的矩阵;构建一个压缩信号响应矩阵积,该矩阵积包括一个含有所述主要因素组的子集的矩阵,和一个含有与所述子集中的每一个主要因素相关的量的矩阵;由含有与所述子集中的每一个主要因素相关的量的矩阵求出一个投影矩阵;构建一个第一归一化矩阵积,该矩阵积包括一个归一化矩阵,和所述经调节的信号响应矩阵中的另一个;构建一个压缩归一化矩阵积,该矩阵积包括所述投影矩阵和所述第一归一化矩阵积;求出可缩小所述第一归一化矩阵积和所述压缩归一化矩阵积之间差异的所述归一化矩阵的值,从而得到一种最佳归一化矩阵;构建第二归一化矩阵积,该矩阵积包括所述最佳归一化矩阵和所述经调节的信号响应矩阵之一;由所述经调节的信号响应的矩阵的另一个和所述第二归一化矩阵积构建一种校准,该校准可用于由所述第一分析装置分析获自所述未知组成的样品的信号响应;和对由所述第一分析装置进行的对获自所述未知组成的样品的信号响应的分析进行校准,从而精确测定所述样品的组成。
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