[发明专利]相变型光记录介质的设计方法及相变型光记录介质无效
| 申请号： | 97192703.0 | 申请日： | 1997-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN1212781A | 公开（公告）日： | 1999-03-31 |
| 发明（设计）人： | 铃木淑男;森本勋 | 申请（专利权）人： | 旭化成工业株式会社 |
| 主分类号： | G11B7/24 | 分类号： | G11B7/24 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王以平 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 在包括由Ge-Sb-Te合金构成的记录层(4)的相变型记录介质中,在记录层(4)的激光入射侧设有界面反射控制层(3),提高了记录层(4)的晶态与非晶态的光吸收率(Aa)的比,提高了光对比度,能够以覆盖记录得到良好的再生信号。通过在界面反射控制层(3)和基板(1)之间设置热扩散层(7),能够正确进行记录密度高的边缘记录。 | ||
| 搜索关键词： | 相变 记录 介质 设计 方法 | ||
【主权项】：
1．一种相变型记录介质的设计方法，其中相变型记录介质利用激光照射进行信息的记录、擦除和再生，并包括由至少包括Ge、Sb、Te的合金构成的、根据照射激光的强度在晶态和非晶态间发生可逆相变的记录层以及支持该记录层的基板，其特征在于：在该记录层的激光入射侧的界面处反射波与入射波的强度比(Rra：记录层为非晶态时，Rrc：记录层为晶态时)在上述记录层为晶态和非晶态时，同时满足式(1)、式(2)和式(3)：Rra-Rrc≥-0.2(1)Rra-0.9×Rrc≤0.05(2)Rra+Rrc≥0.18(3)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于旭化成工业株式会社，未经旭化成工业株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/97192703.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
