[发明专利]含羟肟酸基团和腙酸基团的杀真菌剂

摘要

本发明涉及通式(Ⅰ)的杀真菌化合物,和含所述化合物的组合物,其中G选自基团G1－G9(a)其中不同的符号代表不同的有机基团。本发明也涉及用这些化合物处理植物的方法。

主权项

1.含羟肟酸或腙酸官能团的通式(I)化合物：其中G选自基团G1到G9：其中：n＝0或1Q1是氮原子或CH基团，Q2是氧或硫原子，Q3是氧或硫原子，Q4是氮原子或CR11基团，Q5是氧或硫原子或NR12基团，Y是氧或硫原子或氨基(NH)或氧氨基(ONH)基团，W1是氧或硫原子或亚硫酰基(SO)或磺酰基(SO2)基团，W2是氧原子或NR13基团，当W2是氧原子时，p＝1，当W2是NR13基团时，p＝0或1，X1、X2和X3各自独立地是氢原子、卤原子；或羟基、巯基、硝基、氰硫基、叠氮基、氰基或五氟磺酰基；低级烷基、低级卤代烷基、烷氧基、卤代烷氧基、烷硫基、卤代烷硫基、烷氧基烷基、卤代烷氧基烷基、烷硫基烷基、卤代烷硫基烷基、氰基烷基、氰基烷氧基、氰基烷硫基、烷基亚硫酰基、卤代烷基亚硫酰基、烷基磺酰基、卤代烷基磺酰基或烷氧基磺酰基；或低级环烷基、低级卤代环烷基、链烯基、炔基、链烯基氧基、炔基氧基、链烯基硫基或炔基硫基；或氨基、N-烷氨基、N，N-二烷氨基、酰氨基、氨基烷基、N-烷氨基烷基、N，N-二烷氨基烷基或酰氨基烷基；或羧基、氨基甲酰基、N-烷基氨基甲酰基、N，N-二烷基氨基甲酰基或低级烷氧基羰基；或酰基；X4是氢原子、卤原子；或低级烷基、低级卤代烷基、烷氧基或卤代烷氧基；或氰基或硝基，R1和R2各自独立是氢原子、低级烷基或低级卤代烷基、低级环烷基或低级卤代环烷基、烷氧基烷基、卤代烷氧基烷基、烷硫基烷基、卤代烷硫基烷基或氰基烷基；或氰基、酰基、羧基、氨基甲酰基、N-烷基氨基甲酰基或N，N-二烷基氨基甲酰基、低级烷氧基羰基、烷硫基羰基、卤代烷氧基羰基、烷氧基硫代羰基、卤代烷氧基硫代羰基或烷硫基硫代羰基；或氨烷基、N-烷氨基烷基、N，N-二烷氨基烷基或酰氨基烷基，R1和R2一起形成二价基团，如任意被一个或多个卤原子取代，或任意被一个或多个低级烷基取代的亚烷基，R3是氢原子、低级烷基或低级卤代烷基、低级环烷基或低级卤代环烷基、烷氧基、卤代烷氧基、烷硫基、卤代烷硫基、烷氧基烷基、卤代烷氧基烷基、烷硫基烷基、卤代烷硫基烷基或氰基烷基；或硝基、氰基、酰基、羧基、氨基甲酰基、N-烷基氨基甲酰基、N，N-二烷基氨基甲酰基、低级烷氧基羰基、烷硫基羰基、卤代烷氧基羰基、烷氧基硫代羰基、卤代烷氧基硫代羰基或烷硫基硫代羰基；或链烯基、炔基、N，N-二烷基氨基或N，N-二烷基氨基烷基；或任意取代的苯基或苄基，R4是低级烷基或低级卤代烷基、低级环烷基、低级卤代环烷基或烷氧基烷基；或烷氧基、卤代烷氧基、烷硫基、烷氨基或二烷氨基，R5或R6各自独立地是低级烷基或低级卤代烷基，R7是低级烷基、低级卤代烷基、烷氧基烷基、卤代烷氧基烷基、链烯基或炔基，R8是低级烷基、低级卤代烷基、烷氧基烷基、卤代烷氧基烷基、链烯基、炔基、甲酰基或酰基，R9是氢原子、低级烷基或低级卤代烷基或低级环烷基、低级卤代环烷基、烷氧基烷基、卤代烷氧基烷基、链烯基或炔基，R10是卤原子、低级烷基或低级卤代烷基、低级环烷基或低级卤代环烷基或烷氧基、卤代烷氧基、烷硫基、卤代烷硫基、烷基亚硫酰基、卤代烷基亚硫酰基、烷基磺酰基或卤代烷基磺酰基，R11和R12各自独立地是氢原子、低级烷基或低级卤代烷基或低级环烷基、低级卤代环烷基、烷氧基烷基、卤代烷氧基烷基、链烯基或炔基，R13是氢原子、低级烷基或低级卤代烷基、低级环烷基、低级卤代环烷基、烷氧基烷基、卤代烷氧基烷基、烷硫基烷基或卤代烷硫基烷基、任意取代的烯丙基、任意取代的炔丙基或任意取代的苄基；或酰基、N-烷基氨基甲酰基、N，N-二烷基氨基甲酰基、低级烷氧基羰基、烷硫基羰基、卤代烷氧基羰基、烷氧基硫代羰基、卤代烷氧基硫代羰基或烷硫基硫代羰基；或烷基磺酰基、卤代烷基磺酰基或任意取代的芳基磺酰基，条件是：当W2和Q2是氧原子，G代表基团G1时，则R5不是烷基，R4不是烷氧基、烷氨基或二烷基氨基，R3不是氢原子、烷基或卤代烷基、环烷基或卤代环烷基、烷氧基烷基、卤代烷氧基烷基、烷硫基烷基、氰基烷基、链烯基、炔基或二烷基氨基烷基或任意取代的苯基或苄基，以及上述定义的式(I)化合物的盐、金属和类金属复合物以及光学和几何异构体。