[发明专利]含羟肟酸基团和腙酸基团的杀真菌剂

权利要求书

1.含羟肟酸或腙酸官能团的通式(I)化合物：

其中G选自基团G1到G9：

其中：

n＝0或1

Q₁是氮原子或CH基团，

Q₂是氧或硫原子，

Q₃是氧或硫原子，

Q₄是氮原子或CR₁₁基团，

Q₅是氧或硫原子或NR₁₂基团，

Y是氧或硫原子或氨基(NH)或氧氨基(ONH)基团，

W₁是氧或硫原子或亚硫酰基(SO)或磺酰基(SO₂)基团，

W₂是氧原子或NR₁₃基团，

当W₂是氧原子时，p＝1，

当W₂是NR₁₃基团时，p＝0或1，

X₁、X₂和X₃各自独立地是氢原子、卤原子；或

羟基、巯基、硝基、氰硫基、叠氮基、氰基或五氟磺酰基；低级烷基、低级卤代烷基、烷氧基、卤代烷氧基、烷硫基、卤代烷硫基、烷氧基烷基、卤代烷氧基烷基、烷硫基烷基、卤代烷硫基烷基、氰基烷基、氰基烷氧基、氰基烷硫基、烷基亚硫酰基、卤代烷基亚硫酰基、烷基磺酰基、卤代烷基磺酰基或烷氧基磺酰基；或

低级环烷基、低级卤代环烷基、链烯基、炔基、链烯基氧基、炔基氧基、链烯基硫基或炔基硫基；或

氨基、N-烷氨基、N，N-二烷氨基、酰氨基、氨基烷基、N-烷氨基烷基、N，N-二烷氨基烷基或酰氨基烷基；或

羧基、氨基甲酰基、N-烷基氨基甲酰基、N，N-二烷基氨基甲酰基或低级烷氧基羰基；或

酰基；

X₄是氢原子、卤原子；或低级烷基、低级卤代烷基、烷氧基或卤代烷氧基；或

氰基或硝基，

R₁和R₂各自独立是氢原子、低级烷基或低级卤代烷基、低级环烷基或低级卤代环烷基、烷氧基烷基、卤代烷氧基烷基、烷硫基烷基、卤代烷硫基烷基或氰基烷基；或

氰基、酰基、羧基、氨基甲酰基、N-烷基氨基甲酰基或N，N-二烷基氨基甲酰基、低级烷氧基羰基、烷硫基羰基、卤代烷氧基羰基、烷氧基硫代羰基、卤代烷氧基硫代羰基或烷硫基硫代羰基；或

氨烷基、N-烷氨基烷基、N，N-二烷氨基烷基或酰氨基烷基，

R₁和R₂一起形成二价基团，如任意被一个或多个卤原子取代，或任意被一个或多个低级烷基取代的亚烷基，

R₃是氢原子、低级烷基或低级卤代烷基、低级环烷基或低级卤代环烷基、烷氧基、卤代烷氧基、烷硫基、卤代烷硫基、烷氧基烷基、卤代烷氧基烷基、烷硫基烷基、卤代烷硫基烷基或氰基烷基；或

硝基、氰基、酰基、羧基、氨基甲酰基、N-烷基氨基甲酰基、N，N-二烷基氨基甲酰基、低级烷氧基羰基、烷硫基羰基、卤代烷氧基羰基、烷氧基硫代羰基、卤代烷氧基硫代羰基或烷硫基硫代羰基；或

链烯基、炔基、N，N-二烷基氨基或N，N-二烷基氨基烷基；或

任意取代的苯基或苄基，

R₄是低级烷基或低级卤代烷基、低级环烷基、低级卤代环烷基或烷氧基烷基；或

烷氧基、卤代烷氧基、烷硫基、烷氨基或二烷氨基，

R₅或R₆各自独立地是低级烷基或低级卤代烷基，

R₇是低级烷基、低级卤代烷基、烷氧基烷基、卤代烷氧基烷基、链烯基或炔基，

R₈是低级烷基、低级卤代烷基、烷氧基烷基、卤代烷氧基烷基、链烯基、炔基、甲酰基或酰基，

R₉是氢原子、低级烷基或低级卤代烷基或低级环烷基、低级卤代环烷基、烷氧基烷基、卤代烷氧基烷基、链烯基或炔基，

R₁₀是卤原子、低级烷基或低级卤代烷基、低级环烷基或低级卤代环烷基或烷氧基、卤代烷氧基、烷硫基、卤代烷硫基、烷基亚硫酰基、卤代烷基亚硫酰基、烷基磺酰基或卤代烷基磺酰基，

R₁₁和R₁₂各自独立地是氢原子、低级烷基或低级卤代烷基或低级环烷基、低级卤代环烷基、烷氧基烷基、卤代烷氧基烷基、链烯基或炔基，

R₁₃是氢原子、低级烷基或低级卤代烷基、低级环烷基、低级卤代环烷基、烷氧基烷基、卤代烷氧基烷基、烷硫基烷基或卤代烷硫基烷基、任意取代的烯丙基、任意取代的炔丙基或任意取代的苄基；或

酰基、N-烷基氨基甲酰基、N，N-二烷基氨基甲酰基、低级烷氧基羰基、烷硫基羰基、卤代烷氧基羰基、烷氧基硫代羰基、卤代烷氧基硫代羰基或烷硫基硫代羰基；或

烷基磺酰基、卤代烷基磺酰基或任意取代的芳基磺酰基，

条件是：

当W₂和Q₂是氧原子，G代表基团G1时，则R₅不是烷基，R₄不是烷氧基、烷氨基或二烷基氨基，R₃不是氢原子、烷基或卤代烷基、环烷基或卤代环烷基、烷氧基烷基、卤代烷氧基烷基、烷硫基烷基、氰基烷基、链烯基、炔基或二烷基氨基烷基或任意取代的苯基或苄基，

以及上述定义的式(I)化合物的盐、金属和类金属复合物以及光学和几何异构体。