[发明专利]生产半导体器件的超净车间无效
| 申请号: | 97117695.7 | 申请日: | 1997-08-27 |
| 公开(公告)号: | CN1177828A | 公开(公告)日: | 1998-04-01 |
| 发明(设计)人: | 木崎原稔郎 | 申请(专利权)人: | 索尼株式会社 |
| 主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 杜日新 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | 一种与缩短TAT要求相适应的高传送能力的半导体器件超净车间。在超净车间中,在地板上的生产区中排列包括各种生产半导体器件的制造设备和测量设备的生产设备,净化空气从生产区的天花板侧送入,然后为循环空气,使空气通过地板上排气孔回流到地板下的区域。在地板下的空气回流区中形成有各生产设备之间传送产品母体的传送路线。通过地板上孔口实现传送装置和生产区之间产品母体的输送。 | ||
| 搜索关键词: | 生产 半导体器件 车间 | ||
【主权项】:
1.生产半导体器件的超净车间,在超净车间中,生产区内排列许多生产设备,每台生产设备包括生产半导体器件的制造设备和测量设备,从上述的生产区的天花板侧送入净化空气并且为了循环空气,使空气经由在地板上形成的排气孔返回到地板下面的空间,由此在为了回流生产区中空气形成的地板下面的空气回流区中形成在生产设备之间传送半导体器件产品母体的传送系统的传送路线而且通过在地板上形成的孔口在传送系统和生产区之间接交产品母体。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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