[发明专利]生产半导体器件的超净车间无效

专利信息
申请号: 97117695.7 申请日: 1997-08-27
公开(公告)号: CN1177828A 公开(公告)日: 1998-04-01
发明(设计)人: 木崎原稔郎 申请(专利权)人: 索尼株式会社
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 杜日新
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种与缩短TAT要求相适应的高传送能力的半导体器件超净车间。在超净车间中,在地板上的生产区中排列包括各种生产半导体器件的制造设备和测量设备的生产设备,净化空气从生产区的天花板侧送入,然后为循环空气,使空气通过地板上排气孔回流到地板下的区域。在地板下的空气回流区中形成有各生产设备之间传送产品母体的传送路线。通过地板上孔口实现传送装置和生产区之间产品母体的输送。
搜索关键词: 生产 半导体器件 车间
【主权项】:
1.生产半导体器件的超净车间,在超净车间中,生产区内排列许多生产设备,每台生产设备包括生产半导体器件的制造设备和测量设备,从上述的生产区的天花板侧送入净化空气并且为了循环空气,使空气经由在地板上形成的排气孔返回到地板下面的空间,由此在为了回流生产区中空气形成的地板下面的空气回流区中形成在生产设备之间传送半导体器件产品母体的传送系统的传送路线而且通过在地板上形成的孔口在传送系统和生产区之间接交产品母体。
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