[发明专利]干磨固体粒子的方法和装置无效
| 申请号： | 97116766.4 | 申请日： | 1997-08-15 |
| 公开（公告）号： | CN1208671A | 公开（公告）日： | 1999-02-24 |
| 发明（设计）人： | 埃内斯特·琴代什 | 申请（专利权）人： | 埃内斯特·琴代什 |
| 主分类号： | B02C17/16 | 分类号： | B02C17/16;B02C23/08;B02C23/34 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 文琦 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种干磨固体粒子的方法和装置,包括在流体化床的可控制涡流中初始粗磨固体粒子,并将细的固体粒子送入涡流研磨区中,然后使一部分颗粒通过该研磨区,它包括至少一个顺序垂直放置的研磨级,该研磨级包括使颗粒垂直向上通过至少一个由带有圆孔的静止平板构成的环形间隙的水平涡流区,利用离心排风扇进行重力分离,去除较粗的颗粒,清理向上运动的产品混合物,并将向上运动的颗粒中的剩余部分送入回转半渗透性装置的垂直涡流中。 | ||
| 搜索关键词： | 固体 粒子 方法 装置 | ||
【主权项】：
1．一种干磨固体粒子的方法，它包括下列步骤：将固体颗粒通常为向上地送入涡流研磨区；和通过将一部分颗粒通过涡流研磨区，在涡流研磨区中研磨向上送入的固体颗粒，该涡流研磨区包括至少一个顺序垂直配置的涡流研磨级，该涡流研磨级包括使颗粒向上通过至少一个回转半渗透性装置和一个环形间隙，该环形间隙由表面平坦的带有圆孔的静止平板和在该圆孔中没有孔的回转圆盘构成。
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