[发明专利]磁头的表面改性无效

专利信息
申请号: 97111568.0 申请日: 1997-05-16
公开(公告)号: CN1177168A 公开(公告)日: 1998-03-25
发明(设计)人: H·希尔杰斯;P·乔里斯;M·斯特劳伯 申请(专利权)人: 国际商业机器公司
主分类号: G11B5/187 分类号: G11B5/187;C23C16/00;H05H1/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 全菁
地址: 美国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 在等离子体中改性施于基体上的诸层的最外原子层的方法,该方法能在基体上产生以共价键固定结合的CF3基团。本发明不涉及有限定厚度的层的应用,而是对表面进行调整以预定所要求的吸附和滑移性能。在最小化学改变的同时发生了物理参数的最大改变。
搜索关键词: 磁头 表面 改性
【主权项】:
1.在等离子体室中改性基体上诸层的外原子层的方法,其特征在于从根本上决定等离子体室工作方法的参数,即压力、气体组成和RF发生器输出互相匹配,因而等离子体室在蚀刻和气相淀积间的平衡状态下工作;气体组成中含至少一种能从化学/物理上活化基体表面的气体和至少一种带有在等离子体中是反应性的并能与该活化表面化学键合的组分的气体。
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