[发明专利]磁头的表面改性

权利要求书

1.在等离子体室中改性基体上诸层的外原子层的方法，其特征在于从根本上决定等离子体室工作方法的参数，即压力、气体组成和RF发生器输出互相匹配，因而等离子体室在蚀刻和气相淀积间的平衡状态下工作；气体组成中含至少一种能从化学/物理上活化基体表面的气体和至少一种带有在等离子体中是反应性的并能与该活化表面化学键合的组分的气体。

2.权利要求1所述的方法，其特征在于基体是磁头。

3.权利要求2所述的方法，其特征在于施于基体上的层是金刚石类型的层(碳涂层)。

4.权利要求1-3任一项所述的方法，其特征在于活化气体是惰性气体，而结合气体是氟化气体。

5.权利要求1-4任一项所述的方法，其特征在于压力是2×10^-3一8×10^-3毫巴，优选6×10^-3毫巴，而RF发生器输出是100-250瓦，优选150瓦。

6.权利要求4所述的方法，其特征在于惰性气体是氩，氟化气体是CHF₃。

7.施于基体上的层，其特征在于只有此层的最外原子层具有含氟的部分官能基。

8.权利要求7的层在硬磁盘驱动器中作为磁头的表面的应用。