[发明专利]成像设备、电子发生设备和发生设备制造及特性调节方法无效
| 申请号： | 97102639.4 | 申请日： | 1997-02-21 |
| 公开（公告）号： | CN1093980C | 公开（公告）日： | 2002-11-06 |
| 发明（设计）人： | 山口英司;鲈英俊 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | H01J9/44 | 分类号： | H01J9/44;H01J9/02;H01J1/316;H01J31/12 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王以平 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的目的是提供一种能以简单工艺消除电子源电子发射特性差异的电子发生设备；调节此设备特性的方法；制造此设备的方法；以及采用此设备的成像设备。从脉冲发生器对显示板的各表面传导发射器件施加特性测量电压，得以由电流探测器测量电子发射特性。控制脉冲峰值设定电路以输出具有依上述方式确定的峰值的电压信号，并从脉冲发生器给所述器件施加特性移位电压由此可均衡各器件的电子发射特性。特性移位电压＞特性测量电压＞驱动电压。$ | ||
| 搜索关键词： | 成像 设备 电子 发生 制造 特性 调节 方法 | ||
【主权项】：
1.一种调节具有多电子束源的电子发生设备特性的方法，所述多电子束源包括一批表面传导发射器件和用来对各表面传导发射器件输出驱动电压的驱动装置，所述方法包括下述步骤：施加特性测量电压来测量这批表面传导发射器件的电子发射特性；根据测得的电子发射特性来求得电子发射特性待移位的这批表面传导发射器件电子发射特性的所需值；以及给电子发射特性待移位的这批表面传导发射器件施加特性移位电压，以使这批表面传导发射器件的电子发射特性变成所需值，其中的特性移位电压高于特性测量电压，而特性测量电压又高于上述驱动电压。
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