[发明专利]用于等离子体处理的设备和方法无效
| 申请号： | 97101060.9 | 申请日： | 1997-01-27 |
| 公开（公告）号： | CN1161386A | 公开（公告）日： | 1997-10-08 |
| 发明（设计）人： | 戴维·A·马丁 | 申请（专利权）人： | 贝克顿迪金森公司 |
| 主分类号： | C23C16/50 | 分类号： | C23C16/50 |
| 代理公司： | 柳沈知识产权律师事务所 | 代理人： | 范明娥 |
| 地址： | 美国新*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种设备和方法，用于便于等离子体处理尤其是化学等离子体提高汽相沉积、等离子体聚合或等离子体处理容器内表面上的阻挡层材料用，阻挡层材料用于提供能防止容器中气体和/或水渗透的有效阻挡层并用于延长容器的适用期，特别是对塑料真空血液收集装置是有用的。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 等离子体 处理 设备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种将阻挡薄膜涂层加到塑料基体内壁表面上的方法，该法包括：(a)把具有开口端、封闭端、外部、内部和外壁与内壁表面的塑料制品放在合适位置上致使所述的开口端与具有单体供应源、氧化剂供应源和真空供应源的真空多管体系连接；(b)把所述塑料制品的外壁表面与电极组件一起放在合适位置上；(c)使所述制品的所述内部抽真空；(d)输送单体气体和氧化剂气体到所述制品的所述内部中；(e)输送交流电流到所述电极；和(f)使所述气体离子化以便能形成等离子体从而把阻挡薄膜涂层涂到所述容器的内壁表面上。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
