[发明专利]基于法布里－珀罗原理的光学记录介质无效
| 申请号： | 96199458.4 | 申请日： | 1996-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN1207197A | 公开（公告）日： | 1999-02-03 |
| 发明（设计）人： | 格里特·考那里斯·杜伯尔达姆;弗莱蒂·格哈德·范威杰克;尼克·玛斯肯特;闵庆璇;许永宰;金钟星 | 申请（专利权）人： | 阿克佐诺贝尔公司;三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G11B7/24 | 分类号： | G11B7/24;G11B7/26 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 马浩 |
| 地址： | 荷兰*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 光学记录介质具有带槽透明基片,其上叠加有包括部分反射镜、缓冲层和厚反射层以及可选用的保护层的记录层,并由部分反射镜、缓冲层和厚反射层产生一个法布利－珀罗标准具。信息可以通过部分反射镜、缓冲层、厚反射层、或基片之一或多个的变形而被写入。变形效应改变或破坏了法布里－珀罗标准具,并使反射减少。由于可以用变形效应进行写入,所以可将非液晶高分子量材料用于缓冲层中。利用凹槽内外的部分反射镜/基片界面的反射振幅或相位的差别,可以进行循迹(保持写激光落在凹槽内)。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 法布里 原理 光学 记录 介质 | ||
【主权项】：
1.一种光学记录介质，包括以下各层：a)带槽的透明基片(1)，其上叠加有b)记录层，该层包括具有高复折射率的材料制成的部分反射镜(2)，该复折射率在n，k平面上的由顶角7.15-i3.93，7.15-i5.85，8.96-i6.28，9.56-i5.90和8.14-i3.77限定的五边形之外，反射镜(2)上覆盖以非液晶高分子量材料(且可供选择地使用染料)的缓冲层(3)，再覆盖以厚反射层(4)，共同构成法布里-珀罗，其中设定凹槽内缓冲层的厚度d，以使该记录介质的反射处于高反射状态，而且可供选择地覆盖以c)保护层(5)。
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