[发明专利]基于法布里-珀罗原理的光学记录介质无效
申请号: | 96199458.4 | 申请日: | 1996-11-28 |
公开(公告)号: | CN1207197A | 公开(公告)日: | 1999-02-03 |
发明(设计)人: | 格里特·考那里斯·杜伯尔达姆;弗莱蒂·格哈德·范威杰克;尼克·玛斯肯特;闵庆璇;许永宰;金钟星 | 申请(专利权)人: | 阿克佐诺贝尔公司;三星电子株式会社 |
主分类号: | G11B7/24 | 分类号: | G11B7/24;G11B7/26 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 马浩 |
地址: | 荷兰*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 法布里 原理 光学 记录 介质 | ||
1.一种光学记录介质,包括以下各层:
a)带槽的透明基片(1),其上叠加有
b)记录层,该层包括具有高复折射率的材料制成的部分反射镜(2),该复折射率在n,k平面上的由顶角7.15-i3.93,7.15-i5.85,8.96-i6.28,9.56-i5.90和8.14-i3.77限定的五边形之外,反射镜(2)上覆盖以非液晶高分子量材料(且可供选择地使用染料)的缓冲层(3),再覆盖以厚反射层(4),共同构成法布里-珀罗,其中设定凹槽内缓冲层的厚度d,以使该记录介质的反射处于高反射状态,而且可供选择地覆盖以
c)保护层(5)。
2.如权利要求1的光学记录介质,其中该记录介质凹槽内反射率在未写状态下大于50%,而已写状态下低于未写状态反射率的40%,且对于高密度记录介质而言,其中在未写状态下反射率大于20%。
3.如权利要求1或2的光学记录介质,其中部分反射镜(2)包括铝,镍,钒,铬,钽,或它们的合金。
4.如权利要求1或2的光学记录介质,其中的部分反射镜(2)包括金,银,铜,碲,或它们的合金,或者四氮化三硅,硅,或硅-锗。
5.如权利要求1至4中任一权利要求的光学记录介质,其中基片由聚碳酸酯或非晶聚烯烃制成。
6.如权利要求1至5中任一权利要求的光学记录介质,其中缓冲层包括吸收400至700nm,或780至850nm波段光的染料。
7.一种制作权利要求1至6中任一光学记录介质的方法,包括以下步骤:
在带槽基片上施加部分反射镜,
在所述部分反射镜上施加缓冲层,及
在所述缓冲层上施加厚反射层。
8.一种连续制作权利要求1至6中任一光学记录介质的装置,包括:
传输带槽基片的机构,
在所述基片上施加部分反射镜的机构,
在所述部分反射镜上施加缓冲层的机构,及
在所述缓冲层上施加厚反射层的机构。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于阿克佐诺贝尔公司;三星电子株式会社,未经阿克佐诺贝尔公司;三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/96199458.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。