[发明专利]制备喹唑啉-4-酮衍生物的方法无效

专利信息
申请号: 96196546.0 申请日: 1996-08-26
公开(公告)号: CN1090621C 公开(公告)日: 2002-09-11
发明(设计)人: 宫田一义;黑木保久;堺恭大;津田可彦 申请(专利权)人: 株式会社大冢制药厂
主分类号: C07D239/90 分类号: C07D239/90;C07D239/91
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 王维玉
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种以高产率、低副产物制备一系列喹唑啉-4-酮衍生物的新方法,该方法包括在碱的存在下,使三烷基甲硅烷基卤化物与通式(1)所代表的化合物进行环化反应其中R#+[1],R#+[2],R#+[3]和R#+[4]相同或不同,并各自代表氢原子、低级烷基等;R#+[5]为苯基等;R#+[6]为低级烷基等;得到可用通式(2)表示的喹唑啉-4-酮衍生物,该衍生物是很有价值的药物或合成药物的中间体,其中R#+[1],R#+[2],R#+[3],R#+[4],R#+[5]和R#+[6]的定义同上。
搜索关键词: 制备 喹唑啉 衍生物 方法
【主权项】:
1.一种制备喹唑啉-4-酮衍生物的方法,该方法包括在一种碱存在下,使三烷基甲硅烷基卤化物与下式所代表的化合物反应其中R1,R2,R3和R4相同或不同,并各自代表氢原子、低级烷基、卤原子、硝基、低级烷氧基、氰基、N-低级烷基氨基甲酰基、低级烷氧基羰基、低级烷酰氧基或卤代低级烷基;R5为可以有1-3个各自选自低级烷基、低级烷基、可以在苯环上有一个卤原子取代基的苯基-低级烷基、低级链烯基、低级烷氧基-低级烷基或低级链炔基;R6为低级烷基、卤代的低级烷基、低级烷氧基羰基或可以有一个低级烷基或下式基团作为取代基的苯基其中A为氧原子或单键,Z为低级亚烷基,R7为低级烷基,而R8为低级烷氧基、苯基或可以在苯环上有一个卤原子的苯基-低级烷氧基;得到下式所代表的喹唑啉-4-酮衍生物其中R1,R2,R3,R4,R5和R6的定义同上。
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