[发明专利]磁性微型接触器及其制造方法无效

专利信息
申请号: 95107243.9 申请日: 1995-06-16
公开(公告)号: CN1050436C 公开(公告)日: 2000-03-15
发明(设计)人: E·博南德 申请(专利权)人: 阿苏拉布股份有限公司
主分类号: H01H53/00 分类号: H01H53/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 吴增勇,马铁良
地址: 瑞士*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 可由磁铁致动的微型接触器,包括用一种或多种导电材料(13,14,15)制成的柔性臂(5),其一端(4)经一底脚板(3)中间连至绝缘基片(1),其远端(6)置于基片上的接线柱(2)的上方,板(3)和接线柱(2)由导电材料组成并设置有连至外电路的连接装置(7,8,9,10),臂(5)至少部分由铁磁性材料组成,其中,臂(5),板(3)和柱(2)是由导电材料经电淀积构成的且出自基片两区(9,10)的元件,该淀积是通过采用一系列的掩模层(20,30,40)而实施的,此后再去除这些掩模。
搜索关键词: 磁性 微型 接触器 及其 制造 方法
【主权项】:
1.制造一种磁性微型接触器的方法,该接触器包括用一种或多种导电材料制成的一个柔性臂,其一端经一底脚板连于一个绝缘基片,其自由远端置于布在所述基片上的一个接触接线柱之上方,所述底脚板和接线柱由导电材料组成并设有至外电路的连接装置,所述臂至少部分地由被磁铁致动的铁磁性材料组成,该致动使远端朝向或离开该接触接线线而移动,以建立或切断电接触,该方法的特征在于,它包括下列连续步骤:a)在基片上构成二个隔开的导电部份,每一部份包括一个金属化夹层和一不可氧化的金属层;b)通过淀积一层光致抗蚀剂而构成第一掩模,并使光致抗蚀剂构形,以便形成在导电部份之上方并靠近其相对侧边的至少二个窗口,所述窗口有基本垂直的壁;c)以电淀积法在该窗口内侧生长导电材料,以获得接线柱,直至所述材料与光致抗蚀剂表面齐平;d)淀积一层光致抗蚀剂来构成第二掩模并使其在整个厚度上构形而在一个接线柱之上方形成一个窗口,所述窗口有锥形壁;e)在步骤d)形成的光致抗蚀剂的整个表面,窗口的壁和底部上淀积一中间金属喷镀层;f)淀积一厚层的光致抗蚀剂来形成的第三掩模并使其整个厚度上构形成而形成一个通道,该通道在布于面朝导电部份的侧面上的接线柱的最远侧边之间延伸;g)通过电淀积生长铁磁性材料以形成臂;h)通过电淀积生长一层有压缩性能的材料;i)用化学和机械的方法或只用化学方法在一个或多个步骤中去除光致抗蚀剂层及中间金属镀层。
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