[发明专利]磁性微型接触器及其制造方法无效

专利信息
申请号: 95107243.9 申请日: 1995-06-16
公开(公告)号: CN1050436C 公开(公告)日: 2000-03-15
发明(设计)人: E·博南德 申请(专利权)人: 阿苏拉布股份有限公司
主分类号: H01H53/00 分类号: H01H53/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 吴增勇,马铁良
地址: 瑞士*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 磁性 微型 接触器 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.制造一种磁性微型接触器的方法,该接触器包括用一种或多种导电材料制成的一个柔性臂,其一端经一底脚板连于一个绝缘基片,其自由远端置于布在所述基片上的一个接触接线柱之上方,所述底脚板和接线柱由导电材料组成并设有至外电路的连接装置,所述臂至少部分地由被磁铁致动的铁磁性材料组成,该致动使远端朝向或离开该接触接线线而移动,以建立或切断电接触,该方法的特征在于,它包括下列连续步骤:

a)在基片上构成二个隔开的导电部份,每一部份包括一个金属化夹层和一不可氧化的金属层;

b)通过淀积一层光致抗蚀剂而构成第一掩模,并使光致抗蚀剂构形,以便形成在导电部份之上方并靠近其相对侧边的至少二个窗口,所述窗口有基本垂直的壁;

c)以电淀积法在该窗口内侧生长导电材料,以获得接线柱,直至所述材料与光致抗蚀剂表面齐平;

d)淀积一层光致抗蚀剂来构成第二掩模并使其在整个厚度上构形而在一个接线柱之上方形成一个窗口,所述窗口有锥形壁;

e)在步骤d)形成的光致抗蚀剂的整个表面,窗口的壁和底部上淀积一中间金属喷镀层;

f)淀积一厚层的光致抗蚀剂来形成的第三掩模并使其整个厚度上构形成而形成一个通道,该通道在布于面朝导电部份的侧面上的接线柱的最远侧边之间延伸;

g)通过电淀积生长铁磁性材料以形成臂;

h)通过电淀积生长一层有压缩性能的材料;

i)用化学和机械的方法或只用化学方法在一个或多个步骤中去除光致抗蚀剂层及中间金属镀层。

2.根据权利要求1所述的制造磁性微型接触器的方法,其特征在于:该铁磁性材料是比例分别为20/80的铁-镍合金。

3.根据权利要求1所述的制造磁性微型接触器的方法,其特征在于:该压缩性材料是铬。

4.根据权利要求1所述的制造磁性微型接触器的方法,其特征在于:在步骤g)之前可先电淀积用以改善接触性能的一薄层非磁性材料。

5.根据权利要求4所述的制造磁性微型接触器的方法,其特征在于:该可改善接触性的材料是金。

6.实施权利要求1的方法中步骤a)-g)和i)所得的磁性微型接触器,其特征在于:在无磁场情况下,当由步骤i)去除掩模后,在臂的远端的接触接线柱之间存在空隙。

7.实施权利要求1的方法中步骤a)-i)所得的磁性微型接触器,其特征在于:在无磁场情况下,当由步骤i)去除掩模后,所述臂的远端与接触接线柱接触。

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