[发明专利]正性光刻胶

摘要

可在含水碱性介质中显影的正性光刻胶组合物，包括$（a）至少一种含酸不稳定的a－烷氧基烷酯基的均聚物或共聚物，$（b）至少一种含羧基的共聚物，其羧基的含量为０．４０—５．５０mol/kg，$（c）至少一种化合物，该化合物进行光化辐射曝光可形成酸，及$（d）一种有机溶剂$该组合物光敏度高，组份及其产生的涂层保存期长。尤其适用于印刷电路生产中的抗蚀剂。$＃!

主权项

1．一种正性光刻胶组合物，该组合物可在含水的碱性介质中显影，包括(a)至少一种按重量计，含8-100％具有式Ⅰa的重复结构单元和92-0％具有式Ⅰb的重复结构单元的均聚物或共聚物，这里X是一直接键或一有1-18碳原子的二价脂族、环脂族或杂环族基团，其中一个或更多的碳原子可被氧、硫或非碱氮原子取代，R1、R2和R3，彼此独立，为氢、C1-C6烷基、C5-C14芳基、C6-C20芳烷基、卤素、-COOH、-COOR12或-CONR13R14，这里R12是-非取代的或C1-C6烷氧基-，羟基-或卤素-取代的C1-C18烷基或一末端为羟基的聚醚或聚酯基，R13和R14彼此独立，为氢、C1-C18烷基，C5-C14芳基或C6-C20芳烷基，R4为C1-C6烷基或苯基，R5为氢或C1-C6烷基，R6和R7，彼此独立，为氢，C1-C6烷基或C1-C6烷氧基、或R4、R5、R6或R7基团中的两个，它们和与其键连的碳或氧原子一起构成5-到8-员环。R8、R9、R10和R11，彼此独立，为氢、C1-C18烷基、非取代或C1-C6烷基-、C1-C6烷氧基-或卤素-取代的苯基、卤素、C1-C18烷氧基、-COOR12、-OCOR12或-COOH，这里R12定义同上、或R9和R11，它们和与其键连的碳原子一起构成五员环，具有的结构，这里R15为氢、C1-C18烷基、C5-C14芳基、C6-C20芳烷基或羟基-、烷氧基-或卤素-取代的苯基，条件为均聚物或共聚物的平均分子量(重量平均)为1000-500,000及COOH基的含量最大为0.4mol/kg，(b)，按重量计，至少一种包括5-40％具有式Ⅱa的重复结构单元和95-60％具有式Ⅱb的重复结构单元的均聚物或共聚物这里R1、R2、R3、和X定义如式Ⅰa和式Ⅰb,R8和R9为氢R10为氢或甲基，R11为苯基或-COOR12,R12为C1-C18烷基，或至少是一种包括式的重复结构单元的共聚物，这里R15为苯基，条件是共聚物的平均分子量(重量平均)为1000-500,000道尔顿，羧基含量为0.40-5.50mol/kg，(c)至少一种化合物，光化辐射时形成酸，及(d)一种有机溶剂，并且其中所述的组合物，根据组分(a)和(b)的总和，按重量计，包括10-95％组份(a)和90-5％组份(b)；和组份(c)的用量为1-20％，以及按(a)+(b)+(c)+(d)的总重量计，组分(d)的用量为20-90％。