[发明专利]正性光刻胶

说明书

本发明涉及能在含水碱性介质中显影的正性光刻胶组合物和使用这种光刻胶组合物生产浮凸结构的方法。

在不同片基上的浮凸结构的平板印刷品常使用含粘合剂的抗蚀剂制作，此种粘合剂含有酸敏基团和酸性光致发生剂。

J P Kokai Hei02-248952描述了以酚醛树脂为基础的光刻胶组合物，此树脂的全部或部分羟基由四氢呲喃醚基取代。这些组合物以其高分辩力为特征，但它们的缺点是；曝光后需热处理。

JP Kokai Hei05-17711公开了一种包含(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸四氢吡喃酯和丙烯酸烷基酯的共聚物及酸性光致发生剂的抗蚀剂组合物。这种组合物通过电沉积涂布沉积于片基上，得到一层具有高度均一性的薄膜。然而，这种抗蚀剂的光敏性相对较低。此外，该工艺也需曝光后热处理。

US5252427描述了可与常规酸性光致发生剂结合使用作为抗蚀剂的含酸敏基团和游离酸基的共聚物。但这种共聚物和由其制出的涂料的热稳定性对于某些应用不适合。

在EP-A568827中描述的含酸敏基团的共聚物的混合物和含游离酸基的共聚物也可以与常规酸性光致发生剂结合使用作为正性光刻胶的原料树脂。同样，这些光刻胶也有光敏性低，照射后需热处理的缺点。

现已发现，使用特殊的有机均聚物或共聚物的混合物能得到高光敏性光刻胶材料，且处理后无需加热，贮存期长并能得到分辩力良好的浮凸结构。

本发明涉及能在含水碱性介质中显影的正性光刻胶组合物，它包含：

(a)至少一种含酸不稳定的α-烷氧基烷基酯基团的均聚物或共聚物，

(b)至少一种含羧基的共聚物，其中羧基含量为0.40-5.50mol/kg，

(c)至少一种化合物，光化辐射时形成酸，和

(d)一种有机溶剂。

组分(a)最好是含8-100％(重量)的式Ⅰa的重复结构单元和92-0％(重量)的式Ⅰb的重复结构单元的均聚物或共聚物其中，X是一直接键或是一个含1-18碳原子的二价有机基团，其中一个或多个碳原子可被氧、硫或非碱性氮原子取代，

R₁、R₂和R₃彼此独立，可以是氢、C₁-C₆烷基、C₅-C₁₄芳基、C₆-C₂₀芳烷基、卤素、-COOH、-COOR₁₂或-CONR₁₃R₁₄，此处，R₁₂是未取代的或C₁-C₆烷氧基，羟基或卤素取代的C₁-C₁₈烷基或末端为羟基的聚酯或聚醚基团，R₁₃,R₁₄彼此独立，可以为氢、C₁-C₁₈烷基，C₅-C₁₄芳基或C₆-C₂₀芳烷基。

R₄为C₁-C₆烷基或苯基，

R₅是氢或C₁-C₆烷基，和

R₆和R₇彼此独立，是氢，C₁-C₆烷基或C₁-C₆烷氧基、或R₄、R₅、R₆或R₇中的两个连同与它们相键连的碳或氧原子形成一个5-8元环，