[发明专利]涂敷－玻璃基片的方法和设备

摘要

将一涂层涂到一基片上的设备（１０），包括一带有出口（３０）的气体分配器（１４），出口（３０）位于基片附近并用以将一气态反应物混合体导向基片的表面。设置有一组相通且沿分配器的长度隔开的下降管（２４），用以将气态反应物混合体供给到分配器。该设备包括用以测定沿宽度涂到基片上的涂层（３８）的厚度均匀性的装置。最后，设有将一种或多种反应物或一惰性气体供给到一个或多个下降管的装置，以改变流经一个或多个下降管的气态反应物混合体中一种或多种反应物的浓度。所以就改变了在该下降管附近涂层的沉积速率，从而改善了沉积涂层的均匀性。

主权项

1.一种将一涂层涂到一运动的热玻璃带的表面上的方法，包括：a)设置一个横跨待涂玻璃带的宽度延伸的涂料气体分配器；b)在沿该分配器的长度隔开的两个或更多个供给位置将一包括至少一种气态反应物的气态涂料混合体从集气管供给到所述分配器；c)将气态涂料混合体从分配器导向运动的热玻璃带的表面上，以在热玻璃表面上形成一个涂层；d)在横跨所涂宽度的隔开位置检测已涂产品的至少一种光学性质，所述的光学性质随所述涂层的厚度变化而变化；以及e)根据通过对所述光学性质的测定而检测出的涂层的不佳均匀性，在一个或多个所述隔开的供给位置供给的气态涂料混合体中，有选择地改变所述至少一种气态反应物相对于其它一个或多个所说隔开的供给位置供给的该至少一种气态反应物的浓度，以改善所述均匀性。