[发明专利]非晶硅静电成像器无效
| 申请号： | 94115231.6 | 申请日： | 1994-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN1119749A | 公开（公告）日： | 1996-04-03 |
| 发明（设计）人： | 刘晓波;刘晓征 | 申请（专利权）人： | 刘晓征;刘晓波 |
| 主分类号： | G03G15/00 | 分类号： | G03G15/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100045 北京市西城区*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明是一种用于静电印刷技术的非晶硅静电成像器，它的特征是把“隔离层(或表面层)/感光层/阻挡层”结构作为一个成象单元，在光洁的圆筒型或平板型铝基板上，重叠沉积两个或两个以上成像单元，形成多单元串叠结构非晶硅静电成像器，其中某一个或某几个成像单元的隔离层可以省略，表面处成像单元的表面保护层不能省略，全部成像单元的阻挡层必须是P+型或n+型非晶硅之一。这种结构的非晶硅静电成像器图象反差大，分辨率高。 | ||
| 搜索关键词： | 非晶硅 静电 成像 | ||
【主权项】：
1、一种静电印刷用的非晶硅静电成象器，其特征在于：将“隔离层(或表面层)/感光层/阻挡层”结构作为一个静电成象单元，在园筒型或平板型铝基板的光洁表面上，首先沉积了第一个成象单元的阻挡层，再在其上依次沉积感光层和隔离层，形成第一个成象单元，紧接着在第一个成象单元的隔离层上再沉积第二个成象单元，再在第二个成象单元上沉积第三个成象单元，以此类推，在铝基板上重叠沉积多个成象单元，形成多单元串叠结构非晶硅静电成象器，其中包含成象单元的个数，根据静电成象器光电性能的要求确定。
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