[发明专利]光掩模板无效
申请号: | 93112904.4 | 申请日: | 1993-11-16 |
公开(公告)号: | CN1091210A | 公开(公告)日: | 1994-08-24 |
发明(设计)人: | H·U·阿尔普莱;R·H·弗伦奇;F·D·卡尔克 | 申请(专利权)人: | 纳幕尔杜邦公司 |
主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 魏金玺 |
地址: | 美国特*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 公开了一种透光埋置相移器光掩模板,其包括光学上不均匀衰减薄膜,该膜有至少0.001的透光度和基本上由金属组分和电介质组分组合而成。薄膜的一个表面有比另一表面较高含量的金属组分,贯穿整个薄膜厚度,消光系数变化的分布呈缓变状态。选择消光系数变化的分布和薄膜厚度,在选定波长的情况下,提供大约180°的相移(或者它的奇数倍相移)。 | ||
搜索关键词: | 模板 | ||
【主权项】:
1、一种用于选定波长的透光埋置的相移器光掩模板,其包括一个具有至少0.001透光度的光学不均匀衰减薄膜,并且基本上由金属组分和电介质组分组合而成;其中薄膜的一个表面具有比另一表面较高含量的金属组分,贯穿整个薄膜厚度,消光系数变化的分布呈缓变状态;选择所述的变化的分布和薄膜厚度,在选定波长的情况,提供大约180°或者其奇数倍的相移。
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