[发明专利]光敏曝光材料的曝光方法和装置无效
| 申请号： | 93100207.9 | 申请日： | 1993-01-07 |
| 公开（公告）号： | CN1079309A | 公开（公告）日： | 1993-12-08 |
| 发明（设计）人： | 豪斯特·罗比 | 申请（专利权）人： | 曼内斯曼股份公司 |
| 主分类号： | G02B26/10 | 分类号： | G02B26/10;B41B21/24;B41J2/47;B41J2/455 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人： | 李永波 |
| 地址： | 联邦德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种在隔光箱(2)中对光敏曝光材料(1)曝光的方法，曝光材料(1)位于一与中央纵轴(4)等距的圆弧形面(3)上，激光器(5)的激光光束(6)由可旋转的反射镜(9)导向成光束(10)以逐点信号作为曝光斑对曝光材料(1)曝光。为了使记录速度加倍或使处理图象或文字原稿的时间减半，建议将从准直光管(8)轴平行射出的光束(10)导向到至少两个与中央纵轴(4)成一角度(11)设置的反射面(12a，12b)上，其反射的平行光(10)在镜组(13)中聚焦并沿径向旋转地投向曝光材料表面(1a)的聚焦面(14)。 | ||
| 搜索关键词： | 光敏 曝光 材料 方法 装置 | ||
【主权项】：
1、在一隔光箱(2)内对光敏曝光材料(1)进行曝光的方法，曝光材料(1)位于一个距中央纵轴(4)等距的圆弧形平面(3)上，在该方法中，由激光器(5)发生激光束(6)，该激光束(6)经激光调制器(7)导入准直光管(8)并从该准直光管出来对准一可旋转的反射镜(9)，该反射镜(9)与中央纵轴(4)倾斜设置，并从此处以逐点信号的形式作为曝光斑对曝光材料曝光，其特征在于，从准直光管(8)轴平行地射出的光束(10)被导向至少两个与中央纵轴(4)成角度(11)设置的反射镜面(12)上，之后被反射的平行光(10)在一个镜组(13)中受到聚焦并沿径向旋转地投向曝光材料表面(1a)的聚焦面(14)。
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