[发明专利]光敏曝光材料的曝光方法和装置无效
| 申请号: | 93100207.9 | 申请日: | 1993-01-07 |
| 公开(公告)号: | CN1079309A | 公开(公告)日: | 1993-12-08 |
| 发明(设计)人: | 豪斯特·罗比 | 申请(专利权)人: | 曼内斯曼股份公司 |
| 主分类号: | G02B26/10 | 分类号: | G02B26/10;B41B21/24;B41J2/47;B41J2/455 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人: | 李永波 |
| 地址: | 联邦德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光敏 曝光 材料 方法 装置 | ||
1、在一隔光箱(2)内对光敏曝光材料(1)进行曝光的方法,曝光材料(1)位于一个距中央纵轴(4)等距的圆弧形平面(3)上,在该方法中,由激光器(5)发生激光束(6),该激光束(6)经激光调制器(7)导入准直光管(8)并从该准直光管出来对准一可旋转的反射镜(9),该反射镜(9)与中央纵轴(4)倾斜设置,并从此处以逐点信号的形式作为曝光斑对曝光材料曝光,其特征在于,从准直光管(8)轴平行地射出的光束(10)被导向至少两个与中央纵轴(4)成角度(11)设置的反射镜面(12)上,之后被反射的平行光(10)在一个镜组(13)中受到聚焦并沿径向旋转地投向曝光材料表面(1a)的聚焦面(14)。
2、按权利要求1的方法,其特征在于,准直光管(8)的平行光束(10)对准反射镜面(12a,12b),这两个反射镜面(12a,12b)与中央纵轴(4)成45度角设置,相互构成90度的角。
3、按权利要求1或2的方法,其特征在于,第一反射镜面(12a)的第一径向曝光光束(15)对180度的圆弧形曝光材料(1)的部分周面曝光,同样,第二反射镜面(12b)的第二径向曝光光束(16)对180度的圆弧形曝光材料(1)的部分周面曝光,在这些部分的曝光是以一确定的光带间距错开地进行的。
4、用于照相排字机的装置,在其圆弧形隔光内腔中光敏曝光材料(1)可由激光束(6)曝光,一个可在中央纵轴线方向上向前移动的滑座(17)上装有一个激光器(5),激光器(5)的光轴(18)与中央纵轴(4)相一致,发出的激光光束(6)在一激光调制器(7)中受到调制并可经一准直光管(8)导向一个可旋转的反射镜(9)上,从此处发出一径向聚焦对准曝光材料(1)的以逐点式信号作为曝光斑的曝光光束,其特征在于,在光路(19)上,准直光管(8)之后设置一个具有至少两个反射面(12a,12b)的可旋转反射镜(9),每个反射面(12a,12b)的反射轴线(20)上设有一个与中央纵轴线(4)有一径向间距的聚焦镜组(13),聚焦点(22)可调节到曝光材料(1)的表面上。
5、按权利要求4的装置,其特征在于,每个反射面(12a,12b)与中央纵轴(4)构成45度的角(11),两个反射面(12a,12b)在周面上错开180度。
6、按权利要求4或5的装置,其特征在于,配置了多个反射镜面(12a,12b)的可旋转反射镜(9)与一个保持架(23)相连,该保持架(23)构成安置径向等距设置的聚焦镜组(13)的外环(24,25)。
7、按权利要求4-6中之一的装置,其特征在于,保持架(23)的外环(24,25),从而聚焦镜组(13)可以平行于中央纵轴(4)地轴向相对地在微米范围内无间隙地移动或调整。
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