[发明专利]一种用于研究或改变在真空或保护气体中的样品表面的装置无效
| 申请号： | 91103772.1 | 申请日： | 1991-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN1057363A | 公开（公告）日： | 1991-12-25 |
| 发明（设计）人： | 古道内·让-彼埃尔;拉克鲁特·伊冯 | 申请（专利权）人： | 斯皮拉尔研究发展公司 |
| 主分类号： | H01J37/20 | 分类号： | H01J37/20;H01J37/26;G01J3/00;G01B9/04 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人： | 乔晓东 |
| 地址： | 法国库*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于研究放置在真空或在保护气体中的样品表面的装置。其结构包括一个主工作室，在该室中置有一个用于安装至少一个称为SXM部件的支承平板，该部件是借助于电或光导探针，利用对样品表面扫描来进行样品表面的显微检查，光谱分析或蚀刻。所述装置特征在于，支承平板能够从工作室中卸下，并且围绕中轴自行旋转，使得允许使用装在所述平板周边上的一套SXM部件。它应用于扫描隧道显微检查和/或光谱分析或利用光和/或电子微刻处理。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 研究 改变 真空 保护 气体 中的 样品 表面 装置 | ||
【主权项】：
1、一种用于研究放置在真空或在一种保护气体中的样品表面的装置，其结构型式包括一个主工作室，在该室中置有一个用于安装至少一个称作SXM部件的支承平板，该部件是借助于电或光导探针，利用对所述表面扫描进行样品表面的显微检查、光谱分析或蚀刻，所述装置的特征在于：支承平板能够从主工作室中卸下，并且围绕中轴自行旋转，使得允许使用装在所述平板周边上的一系列SXM部件。
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