[发明专利]通过近紫外辐射在高解像力的酸硬化抗光蚀剂中采用选择的光活性化合物的方法无效
| 申请号： | 90104923.9 | 申请日： | 1990-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN1048931A | 公开（公告）日： | 1991-01-30 |
| 发明（设计）人： | 维尼·埃德曼得·菲雷 | 申请（专利权）人： | 罗姆和哈斯公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03C1/675 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人： | 侯天军 |
| 地址： | 美国宾夕*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种方法，该方法是通过近紫外辐射曝光，在酸硬化抗光蚀剂中采用选择的光活性化合物来形成热稳定的，高解像力影像。这些光活性化合物可以被用作含卤光生酸产生剂的光敏化剂，单靠这些光生酸产生剂本身在通过近紫外辐射曝光后，是不能产生足够的酸来催化酸硬化树脂的交联的。这样的光活性化合物可以从以下一组物质中选出，它们包括吩噻嗪，吩噻嗪的衍生物，吩嗪。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 紫外 辐射 高解像力 硬化 抗光蚀剂中 采用 选择 活性 化合物 方法 | ||
【主权项】：
1、一种制备高解像力的负性抗光蚀剂影像的方法，包括：将抗光蚀剂组合物对近紫外辐射进行图案曝光，所述的抗光蚀剂含有一种吩噻嗪衍生物，一种远紫外光生酸产生剂，和一种酸硬化树脂体系，然后加热所述的抗蚀剂，并用显影剂通过除去未曝光的部分来显影影像。
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