[发明专利]通过近紫外辐射在高解像力的酸硬化抗光蚀剂中采用选择的光活性化合物的方法

权利要求书

1、一种制备高解像力的负性抗光蚀剂影像的方法，包括：将抗光蚀剂组合物对近紫外辐射进行图案曝光，所述的抗光蚀剂含有一种吩噻嗪衍生物，一种远紫外光生酸产生剂，和一种酸硬化树脂体系，然后加热所述的抗蚀剂，并用显影剂通过除去未曝光的部分来显影影像。

2、一种制备高解像力的负性抗光蚀剂影像的方法，包括：

以图案的形式将抗光蚀剂组合物的层部分用有效剂量的近紫外辐射进行曝光，所述的抗光蚀剂含有从约50%到约98%的酸硬化树脂;从约0.5%到约25%的远紫外光生酸产生剂，它相应于近紫外辐射来说不能产生有效量的酸;以及从约0.5%到约25%的具有以下通式的敏化剂：

其中，X是硫，或氧，R是氢或C₁-C₆的烷基，R¹是氢，卤素，或C₁-C₆的烷基，取代的或未取代的：

这种敏化剂可使所述的光生酸产生剂对近紫外辐射敏感;

然后加热所述的抗光蚀剂，选择性地使已曝光的区域反应，

通过选择性地除去未曝光部分的抗光蚀剂显影影像。

3、一种制备高解像力的负性抗光蚀剂的方法，包括：近紫外辐射曝光抗光蚀剂组合物，所述的抗光蚀剂含有酸硬化树脂体系，以及作为光生酸产生剂的2-氯吩噻嗪。

4、一种与用近紫外辐射进行操作的曝光工具结合使用的负性抗光蚀剂组合物，含有一种酸硬化树脂体系，一种远紫外光生酸产生剂，对于近紫外辐射，这种光生酸产生剂不能够产生出足够的酸，以及具有下式的敏化剂：

其中，X是硫或氧，R是氢或C₁-C₆的烷基，R¹是氢，卤素或C₁-C₆的烷基，取代的或未取代的，这种敏化剂在对近紫外辐射曝光时，促使远紫外光生酸产生剂产生酸。

5、一种与用近紫外辐射进行操作的曝光工具结合使用的负性抗光蚀剂组合物，含有一种酸硬化树脂体系和2-氯吩噻嗪。

6、一种用于制备凹凸影像的负性抗光蚀剂组合物，应用近紫外辐射，这种影像具有亚细微图像，并具有直的侧壁外型，它含有权利要求4所述的抗光蚀剂。

7、根据权利要求6所述的抗光蚀剂，其中影像包括具有大于100微米深度的图像。

8、根据权利要求7所述的抗光蚀剂，其中影像包括具有大于200微米深度的图像。

9、根据权利要求7所述的抗光蚀剂，其中影像具有多于一个的表面起伏，这种表面起伏是用一掩膜对抗蚀剂进行曝光而产生的，这种掩膜包括不透光的，透光的，和部分透光的区域。

10、一种产品鉴定标记，含有一种显微可辨的自由漂浮的影像，这种影像具有明确可辨的形状，是根据权利要求2的方法制备的。