[发明专利]电镀系统在审

专利信息
申请号: 90103727.3 申请日: 1990-05-19
公开(公告)号: CN1047540A 公开(公告)日: 1990-12-05
发明(设计)人: 沈亚池 申请(专利权)人: 新加坡商太阳工业股份有限公司
主分类号: C25D17/00 分类号: C25D17/00;C25D17/08;H01L23/48
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利代理部 代理人: 李毅
地址: 新加*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 电镀器件的系统,包括-电镀槽2,电流经第一对电极流经电解液,安置要镀的器件作为第一对的阳极的装置,向镀槽提供补充了电镀材料的电解液的装置,供应装置有-储存罐4,电流经第二对电极流经储存罐中的电解液,安置电镀材料块体作为第二对的阳极的装置,操作时电镀材料在第二对的阳极上溶解对供给镀槽的电解液补充,然后沉积在第一对的阳极上。器件可以是集成电路片组封装或类似物,电镀时它们由托架支撑,托架包括啮合住片组纵向边缘的上和下支承。
搜索关键词: 电镀 系统
【主权项】:
1、电镀电气或电子器件的系统,它包括一盛装电解液的电镀槽,电流通过第一对阳极和阴极流经电解液;用于安置要电镀的器件以此作为所述第一对电极的阴极的装置;向电镀槽提供补充了电镀材料的电解液的装置,该供应装置包括-盛装电解液的储存罐、电流通过第二对阳极和阴极流经储存罐中的电解液;用于安置电镀材料块体以此作为所述第二对电极的阳极的装置;从而在使用中,电镀材料从第二对电极的阳极上溶解,对供应给电镀槽的电解液进行补充,然后沉积在第一对电极的阳极上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于新加坡商太阳工业股份有限公司,未经新加坡商太阳工业股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/90103727.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top