[发明专利]高密度动态随机存取存储单元无效
申请号: | 90103572.6 | 申请日: | 1990-05-14 |
公开(公告)号: | CN1051105A | 公开(公告)日: | 1991-05-01 |
发明(设计)人: | 马萨阿基·耶雪罗;西杰基·莫雷纳加;克拉伦斯·王兴登 | 申请(专利权)人: | 德克萨斯仪器股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/108 | 分类号: | H01L27/108;H01L21/82 |
代理公司: | 上海专利事务所 | 代理人: | 颜承根 |
地址: | 美国得*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种存储单元及制造该单元及其阵列的方法,该单元为沟道电容器型,基片的主表面上形成晶体管,在沟槽周围形成电容器。两者由隐埋的重掺杂区连接,该区的导电类型与基片相反。沟槽周围为掺杂存储区,其导电类型与重掺杂区同,沟槽中形成的场板延伸到各单元间的隔离区域并经电介质层与存储区隔离,故可使隔离区域最小,由隐埋的N+层连接晶体管的源极和隐埋的掺杂层,形成的侧壁氮化硅钝化线保护两多晶硅层的层间绝缘区的侧壁。 | ||
搜索关键词: | 高密度 动态 随机存取 存储 单元 | ||
【主权项】:
1、一种器件,其特征包括:在基片中形成的沟槽;在上述基片沟槽的壁上和在上述基片上形成的上述器件和其他器件之间的上述基片区域中的基片的表面上形成的第一绝缘层;在上述第一绝缘层上形成的场传导层(fieldconductivelayer);上述基片上形成的漏极区域,上述漏极区域由一沟道区域与邻近上述场传导层的上述基片部分隔开;在邻近上述沟道区域的基片上形成的门极绝缘层;在上述门极绝缘层上形成的门极。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
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