[发明专利]提高锗酸铋(BGO)晶体抗辐照损伤技术在审
| 申请号: | 90102951.3 | 申请日: | 1990-10-09 | 
| 公开(公告)号: | CN1060687A | 公开(公告)日: | 1992-04-29 | 
| 发明(设计)人: | 谢幼玉;殷之文;魏宗英;沈定中 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 
| 主分类号: | C30B29/32 | 分类号: | C30B29/32 | 
| 代理公司: | 中国科学院上海专利事务所 | 代理人: | 聂淑仪 | 
| 地址: | 200050 *** | 国省代码: | 上海;31 | 
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| 摘要: | 本发明用稀土氧化物Eu2O3掺杂BGO晶体,使该晶体的辐照损伤有很大改善。本技术简单可靠。铕掺杂BGO晶体的散射颗粒,透光特性,能量分辨率,光输出和均匀性与纯净晶体相似,但如果掺杂量稍大,荧光衰减就会产生一个时间常数为4mes的余辉。 | ||
| 搜索关键词: | 提高 锗酸铋 bgo 晶体 辐照 损伤 技术 | ||
【主权项】:
                1、一种提高锗酸铋(BGO)晶体抗辐照损伤的技术,其特征在于:(1)制备用Eu2O3掺杂的BGO晶体掺杂量为1ppm-100ppm(2)制备待测试的BGO晶体(包括纯BGO晶体与掺杂的BGO晶体)二者加工成相同尺寸并六面抛光。(3)经Co60γ射线辐照,剂量为1000Rad。(4)分别测量二者的光输出(道数):用多道辐射仪(IandG)能量分辨率%:同上透过率T%:用光谱仪
            
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