[发明专利]碳化硅中形成的蓝光发射二极管无效

专利信息
申请号: 89109795.3 申请日: 1989-12-14
公开(公告)号: CN1019436B 公开(公告)日: 1992-12-09
发明(设计)人: 约翰·A·埃德蒙 申请(专利权)人: 克里研究公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利代理部 代理人: 付康
地址: 美国北卡*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明包含有在碳化硅中形成的发光二极管,它发射介于约465至470nm,或介于约455至460nm,或介于约424至428nm波长的可见光。该二极管包含具有第一导电型的α型碳化硅的基片和在具有相同导电型的用作为基片的在基片上的α型碳化硅的第一外延层。一个在第一外延层上的α型碳化硅的第二外延层,具有与第一层相反的导电型,并与第一外延层形成一个p-n结。在最佳实施例中,第一和第二外延层的载流子浓度相互间具有足够的差别,使在偏置条件下流过结的空穴流和电子流的流量相互间有所不同,故而主要的复合作用在所要求的外延层内发生。
搜索关键词: 碳化硅 形成 发射 二极管
【主权项】:
1、一种在碳化硅中形成的发光二极管,它发射可见光谱的蓝-紫色部分的光线,其特征是:一个α型碳化硅的n型基片;一个所述基片的欧姆接触;一个在所述的n型基片上的α型碳化硅的基本上未经补偿的n型单结晶的外延层;一个在所述的n型外延层上的α型碳化硅的P型单晶外延层,它与所述n型层形成P-n结,所述的P一型外延层具有的载流子浓度少于所述的未经补偿的n型外延层的载流子浓度;和一个至所述的P型外延层的欧姆接触,所述的二极管产生介于约455至460nm波长之间的峰值发射,并且在峰值波长处的光谱半宽度不大于约50nm。
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