[发明专利]离子注入真空室

摘要

从承受离子注入基片的表面移走热量，该热量减小了整个操作的效率，热量的移走是借助于热传递管，管子一端支承被注入的基片，其另一端嵌入一恒温筒体的内空间，在那里它们被低于0℃的合适冷却介质所冷却。

主权项

1、离子注入真空室，主要由旋转的底部和盖子组成，其特征在于，有一基本是圆筒形的中空恒温筒体3，提供有冷却介质的进口8和出口9，并充满冷却介质，其一端插入真空室1的底部壁面，在上述壁面是可旋转地被支承并保持真空地被密封，该恒温筒体3嵌入真空室1的一端，提供有多个其轴线沿一圆圈排列的开孔，有多个径向安置的管子2，其是导电和导热材料的两端被封闭，其中一端牢固地插入上述开孔，管子2内部部分地充有液体，该液体在真空室的操作过程中从液态变成气态，并且由气态又变成液态，径向安置的管子2的另一端提供有被离子注入的基片7的基本是平的支承件5，真空室1的盖子提供有偏心安置的开口用于注入离子束16的通道，通往正面对真空室1的盖子的上述开口的在支承件5上的基片7，还有装置13、12使恒温筒体3联同基片7的支承件5旋转运动。