[发明专利]光降解聚乙烯薄膜及其用途无效
| 申请号： | 85100494.6 | 申请日： | 1985-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN1015465B | 公开（公告）日： | 1992-02-12 |
| 发明（设计）人： | 唐松青;徐思羽;黄根龙;唐大森;李良发;王剑良;丁宏勋;郑炳昌;顾振宗;陈玉书;陶云龙;陶宏;马启正;钟 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海有机化学研究所;中国石油化工总公司上海石油化工总厂 |
| 主分类号： | C08L23/06 | 分类号： | C08L23/06;C08K5/56;A01G13/02 |
| 代理公司： | 中国科学院上海有机化学研究所专利办公室 | 代理人： | 邬震中,石家荣 |
| 地址： | 上海市零陵*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明属于光降解聚乙烯薄膜的光敏催化剂及用途。该光敏催化剂是一类分子式为-R的长链取代基二茂铁衍生物，式中R′＝H或R，R＝C7-C11烷基、烯基、羧酸基、羧酸酯基，或COR″而R″为C6-C10烷基、烯基、羧酸基或羧酸酯基。用一种或二种以上的这类光敏催化剂能生产可控光降解聚乙烯薄膜，催化剂的添加量为0.01-0.5％(重量)。膜厚度为3-15微米。这种光降解薄膜可用作农作物复盖地膜。 | ||
| 搜索关键词： | 光降解 聚乙烯 薄膜 及其 用途 | ||
【主权项】：
1、一种含有二茂铁衍生物光敏催化剂的可控光降解聚乙烯薄膜，其特征是含有重量百分数为0.01-0.50%的一种或一种以上分子式为长链取代基二茂铁衍生物的光敏催化剂，式中R1=H或R，R=C7-C11的烯基、除甲酸基外的羧酸基、除甲酸酯基外的羧酸酯基、正辛基或COR11；R11为C4-C10的烯基、除甲酸外的羧酸基或羧酸酯基及正庚基、最佳含量为0.05-0.30%，还可含有微量的光活化剂，薄膜厚度为3-15微米。
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