[实用新型]一种研磨设备的气静压定位平台有效
| 申请号： | 202320160098.1 | 申请日： | 2023-02-09 |
| 公开（公告）号： | CN219075345U | 公开（公告）日： | 2023-05-26 |
| 发明（设计）人： | 赵康 | 申请（专利权）人： | 苏州翠竹半导体有限公司 |
| 主分类号： | B24B41/06 | 分类号： | B24B41/06 |
| 代理公司： | 昆明合众智信知识产权事务所 53113 | 代理人： | 朱世新 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种研磨设备的气静压定位平台，包括底座、支撑组件、同步定位组件，所述底座上表面安装有静压驱动组件，底座对整个平台起到稳定支撑作用，所述支撑组件置于静压驱动组件上表面，所述同步定位组件置于支撑组件上并实现工件在支撑组件中心处的固定，将工件的中心与支撑组件中心对齐，确保工件转动的稳定性，通过四组同步移动的夹块将工件自动固定在支撑板表面中心处，拧动手轮即可完成工件的固定，操作更简便，简化工件拆装流程，利用夹块平移的特性，可以对不同尺寸的工件进行固定，实现夹块的无极调节，兼容性更好，静压转台控制工件转动，配合研磨设备实现精磨加工。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 研磨 设备 静压 定位 平台 | ||
【主权项】：
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