[发明专利]用作显示器件的透明高硬度盖窗薄膜及其制备方法在审
| 申请号： | 202310793488.7 | 申请日： | 2023-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN116815119A | 公开（公告）日： | 2023-09-29 |
| 发明（设计）人： | 金闯;张礼勋;蒋晓明;孙交锴 | 申请（专利权）人： | 太仓斯迪克新材料科技有限公司;江苏斯迪克新材料科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/20;C23C14/35;C23C14/56;G09F9/30 |
| 代理公司： | 北京远大卓悦知识产权代理有限公司 11369 | 代理人： | 徐晨 |
| 地址： | 215400 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明公开了一种用作显示器件的透明高硬度盖窗薄膜及其制备方法，包括依次层叠设置的基材层、硬化层和减反层；所述硬化层为通过卷对卷磁控溅射形成于所述基材层表面的非晶碳氧化硅膜层；所述减反层包括交替层叠设置在硬化层上的N个高折射率层和N个低折射率层，其中N≥1。本发明通过一步卷对卷磁控溅射工艺在柔性基材上沉积碳氧硅(SiOC)即可得到透明的硬化层薄膜，避免了传统先涂布再干法镀增透膜两步法过程繁琐的弊端，并且能解决了湿法涂布存在的硬度不足和厚度偏差大的缺陷；本发明制备的透明高硬度盖窗薄膜550g铅笔硬度≥5H，420‑680nm平均透过率≥94％，兼具高透明和高硬度特性。 | ||
| 搜索关键词： | 用作 显示 器件 透明 硬度 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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