[发明专利]一种生长硅锗外延的方法、外延片及器件在审
申请号: | 202310701465.9 | 申请日: | 2023-06-13 |
公开(公告)号: | CN116732606A | 公开(公告)日: | 2023-09-12 |
发明(设计)人: | 龚正致;廖世容;李超翰 | 申请(专利权)人: | 浙江光特科技有限公司 |
主分类号: | C30B25/02 | 分类号: | C30B25/02;G02F1/015;C30B25/16;C30B29/06;C30B29/08 |
代理公司: | 杭州航璞专利代理有限公司 33498 | 代理人: | 贾甜甜 |
地址: | 312000 浙江省绍兴市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明提供了一种生长硅锗外延的方法,外延片及器件,方法包括:确定每一个FK通道对应的目标吸收波长,获取对应于目标吸收波长的生长外延的菜单,根据预先建立的吸收波长与虚拟图形密度之间的关联关系,识别出目标吸收波长对应的目标密度;根据所述目标密度以及对应的目标FK通道,制作对应的目标光刻板;根据所述目标光刻板,根据所述生长外延的菜单实施外延的生产,其中,外延生产得到的芯片用于封装光的多波长调制器件。应用本发明实施例,可以实现光的光的多波长调制。 | ||
搜索关键词: | 一种 生长 外延 方法 器件 | ||
【主权项】:
暂无信息
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