[发明专利]一种生长硅锗外延的方法、外延片及器件在审

专利信息
申请号: 202310701465.9 申请日: 2023-06-13
公开(公告)号: CN116732606A 公开(公告)日: 2023-09-12
发明(设计)人: 龚正致;廖世容;李超翰 申请(专利权)人: 浙江光特科技有限公司
主分类号: C30B25/02 分类号: C30B25/02;G02F1/015;C30B25/16;C30B29/06;C30B29/08
代理公司: 杭州航璞专利代理有限公司 33498 代理人: 贾甜甜
地址: 312000 浙江省绍兴市*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明提供了一种生长硅锗外延的方法,外延片及器件,方法包括:确定每一个FK通道对应的目标吸收波长,获取对应于目标吸收波长的生长外延的菜单,根据预先建立的吸收波长与虚拟图形密度之间的关联关系,识别出目标吸收波长对应的目标密度;根据所述目标密度以及对应的目标FK通道,制作对应的目标光刻板;根据所述目标光刻板,根据所述生长外延的菜单实施外延的生产,其中,外延生产得到的芯片用于封装光的多波长调制器件。应用本发明实施例,可以实现光的光的多波长调制。
搜索关键词: 一种 生长 外延 方法 器件
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江光特科技有限公司,未经浙江光特科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202310701465.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top