[发明专利]一种LED钝化层及其制备方法、LED芯片在审

专利信息
申请号: 202310375661.1 申请日: 2023-04-10
公开(公告)号: CN116435436A 公开(公告)日: 2023-07-14
发明(设计)人: 罗钢铁;张星星;林潇雄;胡加辉;金从龙 申请(专利权)人: 江西兆驰半导体有限公司
主分类号: H01L33/44 分类号: H01L33/44;H01L33/00
代理公司: 南昌旭瑞知识产权代理事务所(普通合伙) 36150 代理人: 万建
地址: 330000 江西省南昌市南*** 国省代码: 江西;36
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摘要: 发明提供一LED钝化层及其制备方法、LED芯片,LED钝化层沉积在GaN外延片的表面,LED钝化层包括第一钝化子层和沉积在第一钝化子层上的第二钝化子层,其中,第一钝化子层沉积在GaN外延片的切割走道边缘表面,第二钝化子层沉积在第一钝化子层和GaN外延片表面,通过在GaN外延片的表面沉积第一钝化子层和第二钝化子层,其中,第一钝化子层采用TiO2沉积,第二钝化子层采用SiO2沉积,而TiO2与SiO2连接部分是具备较强的粘附效果,因此在对相邻的两GaN外延片进行切割时沿第一钝化子层宽度中部进行切割,由于切割后多余部分的第一钝化子层和第二钝化子层任保持黏合状态结构之间相对较为稳定,避免钝化层出现破裂翘起情况。
搜索关键词: 一种 led 钝化 及其 制备 方法 芯片
【主权项】:
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