[发明专利]一种超高铜离子负载的金属蚀刻液组合物及其制备方法在审
| 申请号： | 202310323581.1 | 申请日： | 2023-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN116200748A | 公开（公告）日： | 2023-06-02 |
| 发明（设计）人： | 徐帅;马强;李闯;张红伟;胡天齐;黄海东;刘长乐;丁荣;魏春雷;方新军;戚玉霞 | 申请（专利权）人： | 四川和晟达电子科技有限公司;江苏和达电子科技有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18 |
| 代理公司： | 上海诺名知识产权代理事务所(普通合伙) 31456 | 代理人： | 陈益思 |
| 地址： | 620000 四川省眉*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明涉及蚀刻液技术领域(IPC分类号为C23F1/18)，尤其涉及一种超高铜离子负载的金属蚀刻液组合物及其制备方法，所述组合物包括主剂和辅剂，所述主剂的制备原料包括：过氧化氢、氟源、有机酸、丁基醚衍生物、第一氨基氮唑衍生物、第一溶剂。所制备的金属蚀刻液组合物具有远高于现有技术的铜离子负载量，负载能力可达25000ppm，蚀刻性能良好，蚀刻持久性强，蚀刻液使用寿命长，经济效益高，实际应用中能够显著为企业节省成本并提高成品效果，具有极高的应用价值。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 超高 离子 负载 金属 蚀刻 组合 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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