[发明专利]一种超高铜离子负载的金属蚀刻液组合物及其制备方法

权利要求书

1.一种超高铜离子负载的金属蚀刻液组合物，其特征在于，所述组合物包括主剂和辅剂，所述主剂的制备原料包括：过氧化氢、氟源、有机酸、丁基醚衍生物、第一氨基氮唑衍生物、第一溶剂；所述辅剂的制备原料包括：氟源、无机酸、有机酸组合物、第二氨基氮唑衍生物、第二溶剂。

2.根据权利要求1所述的一种超高铜离子负载的金属蚀刻液组合物，其特征在于，按质量百分比，所述主剂的制备原料包括：过氧化氢5-20％、氟源0.01-1％、有机酸1-5％、丁基醚衍生物0.01-5％、第一氨基氮唑衍生物0.01-1％、第一溶剂余量。

3.根据权利要求2所述的一种超高铜离子负载的金属蚀刻液组合物，其特征在于，所述丁基醚衍生物包括乙二醇单丁基醚、二乙二醇单丁基醚、三乙二醇单丁基醚、四乙二醇单丁醚、丙二醇丁醚、二丙二醇丁醚、三丙二醇单丁醚、聚丙二醇单丁醚、聚乙二醇单丁醚、聚乙二醇聚丙二醇单丁基醚中的至少一种。

4.根据权利要求1所述的一种超高铜离子负载的金属蚀刻液组合物，其特征在于，按质量百分比，所述辅剂的制备原料包括：氟源1-5％、无机酸5-20％、有机酸组合物5-15％、第二氨基氮唑衍生物0.01-1％、第二溶剂余量。

5.根据权利要求4所述的一种超高铜离子负载的金属蚀刻液组合物，其特征在于，所述第一氨基氮唑衍生物、第二氨基氮唑衍生物均包括3-氨基三氮唑、5-氨基四氮唑、2-甲基-5-氨基-2H-四氮唑、1-苯基-5-氨基四氮唑、4-氨基-1,2,4-三氮唑、5-甲基-1-氨基四氮唑、1-甲基-5-氨基四氮唑、5-(2-氨基-4-氯苯基)四氮唑、3-氨基-5-甲氧基-1H-1,2,4-三氮唑、3-氨基-5-巯基-1,2,4-三氮唑、4-氨基-3-肼基-5-巯基-1,2,4-三氮唑、3,5-二氨基-1,2,4-三氮唑中的至少一种。

6.根据权利要求5所述的一种超高铜离子负载的金属蚀刻液组合物，其特征在于，所述有机酸、有机酸组合物均包括羧酸、磺酸、亚磺酸、硫羧酸中的至少一种。

7.根据权利要求6所述的一种超高铜离子负载的金属蚀刻液组合物，其特征在于，所述有机酸、有机酸组合物均包括丁二酸、苹果酸、柠檬酸、亚氨基二乙酸、酒石酸、草酸、2-硫基环戊烷羧酸中的至少一种。

8.根据权利要求7所述的一种超高铜离子负载的金属蚀刻液组合物，其特征在于，使用主剂进行刻蚀，随着蚀刻的进行，体系中的铜离子每升高100ppm，向体系补加0.03％-0.12％主剂重量的辅剂。

9.根据权利要求8所述的一种超高铜离子负载的金属蚀刻液组合物，其特征在于，所述组合物的最高铜负载为25000ppm。

10.一种根据权利要求1-9任一项所述的超高铜离子负载的金属蚀刻液组合物的制备方法，其特征在于，按质量百分比，将主剂和辅剂的制备原料分别在35-45℃下混合，即得主剂和辅剂。