[发明专利]电容耦合等离子体处理装置在审
| 申请号： | 202310275919.0 | 申请日： | 2023-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN116053109A | 公开（公告）日： | 2023-05-02 |
| 发明（设计）人： | 常庆环;游加加 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 梁瑜;臧建明 |
| 地址： | 230601 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本公开提供一种电容耦合等离子体处理装置，包括壳体、第一电极、第二电极、第一射频偏压源和第二射频偏压源，壳体具有容置腔，第一电极和第二电极均位于容置腔中且至少部分相对设置，待处理件位于第一电极朝向第二电极的一侧；第一射频偏压源与第一电极电连接，第二射频偏压源与第二电极电连接，第一射频偏压源和第二射频偏压源的频率相等，且间隔半个周期。第二射频偏压源可以阻碍电子朝向第二电极运动，阻碍第二电极附近的电子鞘的形成，以降低电子鞘对阳离子的吸引，提高阳离子朝向第一电极的运动速度。因此，本公开提供的电容耦合等离子体处理装置，能够提高等离子体中的阳离子对待处理件的轰击能力，从而可以提高对待处理件的刻蚀效果。 | ||
| 搜索关键词： | 电容 耦合 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
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