[发明专利]一种基于光电化学刻蚀制造微纳结构的系统及方法在审
| 申请号： | 202310270320.8 | 申请日： | 2023-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN116382040A | 公开（公告）日： | 2023-07-04 |
| 发明（设计）人： | 朱金龙;刘心沁;彭攀 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;B81C1/00;B82Y40/00;G02B27/09;G02B27/48 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 孔娜 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明属于微纳光学制造相关技术领域，其公开了一种基于光电化学刻蚀制造微纳结构的系统和方法，系统包括沿激光光路设置的激光器、汇聚透镜、旋转散射片、第一准直透镜、汇聚物镜、滤波针孔、第二准直透镜、偏振片、第一分束立方、空间光调制器及傅里叶透镜；汇聚透镜用于将激光器发出的平行激光聚焦照射在旋转散射片上，第一准直透镜将来自旋转散射片的散射激光平行出射；空间光调制器用于对接收到的光进行调制，经过傅里叶透镜后得到目标光场图案，进而制造微纳结构。系统通过旋转散射片从硬件上匀化激光，无需复杂的代码就可以使用空间光调制器生成高质量的任意目标光场图案，且相比LED光场调制具有更高的光束整形分辨率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 光电 化学 刻蚀 制造 结构 系统 方法 | ||
【主权项】：
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