[发明专利]一种基于光电化学刻蚀制造微纳结构的系统及方法

权利要求书

1.一种基于光电化学刻蚀制造微纳结构的系统，其特征在于：

所述系统包括沿激光光路设置的激光器、汇聚透镜、旋转散射片、第一准直透镜、汇聚物镜、滤波针孔、第二准直透镜、偏振片、第一分束立方、空间光调制器及傅里叶透镜；

所述汇聚透镜用于将激光器发出的平行激光聚焦照射在所述旋转散射片上，所述第一准直透镜将来自所述旋转散射片的散射激光平行出射，平行出射的激光依次经由所述汇聚物镜、所述滤波针孔及所述第二准直透镜进行滤波后到达所述偏振片，进而依次通过所述偏振片及所述第一分束立方后照射在所述空间光调制器上；所述空间光调制器用于对接收到的光进行调制以得到目标光场图案，进而制造微纳结构。

2.如权利要求1所述的基于光电化学刻蚀制造微纳结构的系统，其特征在于：所述系统还包括沿投影式微缩光路设置的第一管镜、第二分束立方及投影物镜。

3.如权利要求2所述的基于光电化学刻蚀制造微纳结构的系统，其特征在于：所述系统还包括相机及第二管镜，所述第二管镜设置在所述相机与所述第二分束立方之间，以用于对准样品表面。

4.如权利要求2所述的基于光电化学刻蚀制造微纳结构的系统，其特征在于：空间光调制器调制后的光场经由傅里叶透镜后生成目标光场图案传输到投影式微缩光路以照射在样品表面，进而进行刻蚀加工。

5.如权利要求1-4任一项所述的基于光电化学刻蚀制造微纳结构的系统，其特征在于：第一准直透镜采用非球面透镜。

6.如权利要求1-4任一项所述的基于光电化学刻蚀制造微纳结构的系统，其特征在于：旋转散射片为抛光型散射片，1500目，转速大于等于3000转/分钟。

7.如权利要求1-4任一项所述的基于光电化学刻蚀制造微纳结构的系统，其特征在于：偏振片的偏振方向应与空间光调制器的长轴方向平行。

8.如权利要求1-4任一项所述的基于光电化学刻蚀制造微纳结构的系统，其特征在于：旋转散射片到汇聚透镜的距离等于汇聚透镜的焦距；旋转散射片到第一准直透镜的距离等于第一准直透镜的焦距。

9.一种基于光电化学刻蚀制造微纳结构的方法，其特征在于：所述方法是采用权利要求1-8任一项所述的基于光电化学刻蚀制造微纳结构的系统进行微纳结构制造的。