[发明专利]一种基于等离子体射流阵列的DBC基板表面处理系统及方法在审
| 申请号： | 202310175751.6 | 申请日： | 2023-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN116209129A | 公开（公告）日： | 2023-06-02 |
| 发明（设计）人： | 祝曦;樊嘉杰 | 申请（专利权）人： | 复旦大学宁波研究院 |
| 主分类号： | H05H1/26 | 分类号： | H05H1/26;C23C16/50;C23C16/02 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人： | 赵旭;王永伟 |
| 地址： | 315327 浙江省宁波市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于等离子体射流阵列的DBC基板表面处理系统及方法，属于表面处理领域，系统包括等离子体射流阵列、电源装置和气源装置；等离子体射流阵列包括依次布置的三个射流单元；各射流单元均与气源装置及电源装置相连接；气源装置包括分别与三个射流单元相连接的惰性气体储罐、空气储罐和反应媒介储罐，三个射流单元工作时分别产生用于对DCB基板表面进行清洗、氧化改性及薄膜沉积的射流体羽；反应媒介为甲氧基硅烷、四氯化钛或四氟化碳，使得通过所沉积的薄膜对DCB基板表面的介电参数进行优化以提高电气强度。本发明不但能够改善DCB基板表面电气强度，而且还具有废弃物排放低、能源损耗低、适于流水线作业的特点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 等离子体 射流 阵列 dbc 表面 处理 系统 方法 | ||
【主权项】：
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