[发明专利]一种扩散炉管及采用其提升硅片方阻均匀性的方法在审
| 申请号： | 202310129194.4 | 申请日： | 2023-02-17 |
| 公开（公告）号： | CN116121877A | 公开（公告）日： | 2023-05-16 |
| 发明（设计）人： | 石兆春;赵颖;齐利娜;任勇;何悦 | 申请（专利权）人： | 横店集团东磁股份有限公司 |
| 主分类号： | C30B31/16 | 分类号： | C30B31/16;C30B29/06 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 王艳斋 |
| 地址： | 322118 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供一种扩散炉管及采用其提升硅片方阻均匀性的方法，所述扩散炉管包括炉体(1)和进气管(2)，所述炉体包括进气口(3)和出气口(4)，所述进气管(2)通过所述进气口(3)延伸至所述炉体(1)内部，所述进气管(2)位于所述炉体(1)的底部；所述炉体内部的进气管(2)上设置有至少两个出气孔(5)。本发明在进气管上设置有至少两个出气孔，提高了进气的均匀性，且扩散炉管在运行时，石英舟顶部的磷源量明显提升，解决了石英舟顶部电池片磷源量偏低的问题，避免了烧结污染，同时有效提升了硅片方阻的均匀性。在此基础上，采用阶梯式通磷源气体的方式进行磷源沉积扩散，得到了均匀性较好的高方阻电池片，其转换效率也得到了改善。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 扩散 炉管 采用 提升 硅片 均匀 方法 | ||
【主权项】：
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