[发明专利]可提升光刻图形清晰度的次分辨率辅助特征图形生成方法在审
| 申请号： | 202310069426.1 | 申请日： | 2023-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN116068864A | 公开（公告）日： | 2023-05-05 |
| 发明（设计）人： | 虞子阳 | 申请（专利权）人： | 智腾科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 大连星河彩舟专利代理事务所(普通合伙) 21263 | 代理人： | 杨阳 |
| 地址： | 中国香港新界沙田科学*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明属于芯片制造领域，提出了可提升光刻图形清晰度的次分辨率辅助特征图形生成方法。该方法利用连续透过率掩膜精准引导次分辨率辅助特征图形生成位置，在考虑了版图布局设计规则约束和透射光线相互作用范围影响之外，引入一项表征次分辨率辅助特征图形最终效果的优化目标，通过对不可解的分立解空间问题进行解空间的连续化松弛，在添加辅助特征后掩膜的图像生成质量和复杂度之间取得更好地平衡；对工艺偏差建模优化，产生的掩膜版能更有效对抗工艺偏差。优化芯片制造掩膜版，使得光刻之后的图案有较高的保真度。 | ||
| 搜索关键词： | 提升 光刻 图形 清晰度 分辨率 辅助 特征 生成 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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