[发明专利]可提升光刻图形清晰度的次分辨率辅助特征图形生成方法

权利要求书

1.可提升光刻图形清晰度的次分辨率辅助特征图形生成方法，其特征在于，包括步骤如下：

步骤1，生成基于目标图片的连续透过率掩膜；

步骤2，利用步骤1生成的连续透过率掩膜的透过率分布引导次分辨率辅助特征图形候选种子的分布，形成次分辨率辅助特征图形的安全生成区域，构建次分辨率辅助特征图形种子候选集；

步骤3，根据次分辨率辅助特征图形间最小距离限制的要求，从步骤2的次分辨率辅助特征图形种子候选集中选择最有价值的次分辨率辅助特征图形种子，构建次分辨率辅助特征图形种子集；

步骤4，通过对步骤3次分辨率辅助特征图形种子集中的次分辨率辅助特征图形种子，分别进行图形演化，生成可提升光刻图形清晰度的次分辨率辅助特征图形。

2.根据权利要求1所述的可提升光刻图形清晰度的次分辨率辅助特征图形生成方法，其特征在于，步骤1，生成基于目标图片的连续透过率掩膜，具体步骤包括：

步骤1.1，利用连续透过率掩膜M计算公式(1)计算初始连续透过率掩膜M₀

式中，P为连续辅助变量，随机初始化为不受限制的连续辅助变量P₀；θ_P为0.1～0.2倍于二值取值掩膜转换函数的陡度；

步骤1.2，经过光刻模拟后，根据公式(2)获得损失函数L；

式中，L为损失函数，R为标准条件下的光刻图形，R_v为第v个偏移条件下的光刻图形，R^*为目标图片，α为偏移条件下光刻精度的权重；N_p为所考虑的不同光刻条件的数目；

步骤1.3，比较步骤1.2计算得到的损失函数与预先设定的最大允许阈值，若不小于阈值，则利用步骤1.2计算得到的损失函数梯度回传更新连续辅助变量P，如公式(3)所示，

式中，Δt为迭代步长，为损失函数梯度；

进而通过公式(1)迭代更新连续透过率掩膜M；

直至损失函数小于预先设定的最大允许阈值，则认为优化完成，输出最终的连续透过率掩膜。

3.根据权利要求1所述的可提升光刻图形清晰度的次分辨率辅助特征图形生成方法，其特征在于，步骤2中，所述次分辨率辅助特征图形的安全生成区域，是指垂直于目标图片中形状的边界分别向外延伸次分辨率辅助特征安全距离D_OPC和次分辨率辅助特征有效作用距离D_SRAF,在D_OPC和D_SRAF两个边界之间的区域。

4.根据权利要求1所述的可提升光刻图形清晰度的次分辨率辅助特征图形生成方法，其特征在于，步骤2中，所述次分辨率辅助特征图形候选种子，是指选取所述安全生成区域中局部透过率最大的部位；所述种子为同一尺寸的正方形。